In this study, it has been tried to make the single Mo-Cu alloying targets with the Cu showing the best surface hardness that was determined by investigation on the coatings with the double target process. The single alloying targets were prepared by powder metallurgy methods such as mechanical alloying and spark plasma sintering. The nanocomposite coatings were prepared by reactive magnetron sputtering process with the single alloying targets in $Ar+N_2$ atmosphere. The microstructure changes of the Mo-Cu-N coatings with diverse Cu contents were investigated by using XRD, SEM and EDS. The mechanical properties of the coatings were evaluated by using nano-indentor, scratch test, and ball on disc methods. Especially, the coated samples were tested by using various lubricating oil to compare the property of anti wear-resistance. In this study, the nano-composite MoN-Cu coatings prepared using an alloying target was eventually compared with the coatings from the multiple targets.
This study was evaluated on etcher of capacitive coupled plasmas with OES (Optical Emission Spectroscopy) and impedance by VI probe that are widely used for process control and monitoring at semiconductor industry. The experiment was operated at conventional Ar and C4F8 plasma with variable change such as pressure and addition of gas (Atmospheric Leak: N2 and O2), RF, pressure, that are highly possible to impact wafer yield during wafer process, in order to observe OES and VI Probe signals. The sensitivity change on OES and Impedance by Vi probe was analyzed by statistical method to determine healthy of process. The main goal of this study is to understand unwanted tool performance to eventually improve productive capability. It is important for process engineers to actively adjust tool parameter before any serious problem occurs.
Ferromagnetic Mn-Al nanoparticles were prepared using a plasma arc discharge method. The influence of the process parameters on the vaporization rate, composition, particle size, and magnetic properties of the as-produced nanoparticles was investigated. The Mn content was found to be higher in the nanoparticles than in the corresponding mother materials, although the difference diminished with the reaction time. As the $H_2$ content in the reaction gas increased, both the vaporization rate and the particle size increased. With 30 at.% Mn, the average particle diameter was 35.2 nm under a pure Ar gas condition, whereas it was 95.4 nm at a Ar:$H_2$ ratio of 60:40. With the addition of a small amount of carbon, ${\varepsilon}$-phase nanoparticles were successfully synthesized. After a heat treatment in a vacuum for 30 min at $500^{\circ}C$, the nonmagnetic ${\varepsilon}$-phase was transformed into the ferromagnetic ${\tau}$-phase, and a very high coercivity of nearly 5.6 kOe was achieved.
$Al_2$$O_3$ coatings were deposited on M2 high speed steels by the plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) process, using a gas mixture of AlC1$_3$, $H_2$, $CO_2$ and Ar $Al_2$$O_3$ coatings had interference color and showed amorphous phase. $A1_2$X$A1_3$/($Ti_{0.5}$ /$Al_{0.5}$ )N double layer coatings were produced in the sequence of substrate $NH_3$ plasma pretreatment, ($Ti_{0.5}$$Al_{0.5}$)N depoition process, $Al_2$$O_3$ deposition process. $Al_2$$O_3$/( $Ti_{0.5}$A $l_{0.5}$)N double layer coatings showed NaCl structure in ( $Ti_{0.5}$A $l_{0.5}$)N layer and amorphous phase in A1$_2$$O_3$ layer. It was shown that $Al_2$$O_3$ columns continuously grew onto ( $Ti_{0.5}$A $l_{0.5}$)N columns. ( $Ti_{0.5}$A $l_{0.5}$)N single coating and $Al_2$$O_3$/( $Ti_{0.5}$A $l_{0.5}$)N double layer coating were oxidized at $700^{\circ}C$, 80$0^{\circ}C$, 90$0^{\circ}C$ for 1hr, 3hr in atmosphere. At 80$0^{\circ}C$, single layer coatings were oxidized, which were examined substrate oxide particle. But $Al_2$$O_3$/ ( $Ti_{0.5}$A $l_{0.5}$)N double layer coatings maintained the asdeposited state. Therefore, $Al_2$$O_3$/ ( $Ti_{0.5}$A $l_{0.5}$)N double layer coatings have moreexcellent oxidation resistance than ( $Ti_{0.5}$A $l_{0.5}$)N single layer coatings.X> 0.5/)N single layer coatings.s.
In this study, a relatively effective process is used to sterilize Escherichia coli on the surface of micro-sized calcium citrate powder using nitrogen and argon as process gases in a low-temperature vacuum plasma treatment. The purpose of this study is to confirm and to introduce the effectiveness of homogeneous surface treatment for the sterilization of fine inorganic powder by the rotatable low-temperature RF plasma system designed by ourselves. The results of the test using 3M petrifilm showed that there were no remarkable spots in the case of the surface of plasma treated powder, whereas the untreated powder showed many blue spots, which indicating that the E. coli was alive. After 5 days, in the same samples, the blue spots were seen to be larger and darker than before, while the plasma-treated powder showed no changes. The results from FE-SEM analysis showed that the E. coli was damaged and/or destroyed by reactive species generated in the plasma space, resulting in the E. coli being sterilized. Furthermore, the sterilization effects according to the selected parameters ($N_2$ and Ar; flow rate 30 and 50 sccm) adapted in this study were mutually similar, regardless of such different process parameters, and this indicates that homogeneous treatment of powder surfaces could be more effective than conventional methods. Therefore, the plasma apparatus used in this study may be a practical method to use in a powerful sterilization process in powder-type food.
대기압 플라즈마 발생장치를 이용한 식각장비 개발은 낮은 공정단가, 저온 공정, 다양한 표면처리 응용 효과와 같은 이점을 가지고 있어 현재, 많은 분야에서 연구되고 있다. 본 연구에서는, dielectric barrier discharge(DBD) 방식을 이용한 대기압 발생장치를 통해 평판형 디스플레이 제작에 응용이 가능한 $SiO_2$ 층의 식각에 대한 연구를 하였다. $N_2/NF_3$ gas 조합에 $CF_4$ 또는 $C_{4}F_{8}$ gas를 부가적으로 첨가하였다. 이때 N2 60 slm / NF3 600 sccm/CF4 7 slm/Ar 200 sccm의 gas composition에서 최대 260 nm/min의 식각 속도를 얻을 수 있었다.
Jeong, C.;Song, K.;Park, C.;Jeon, Y.;Lee, D.;Ahn, J.
한국표면공학회지
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제29권6호
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pp.869-875
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1996
In this article the effects of process parameters of inductively coupled plasma etching with $SF_6$ /$N_2$/Ar mixture gas and mask materials on the etched profile of W were investigated. While the etched profile was improved by $N_2$-addition, low working presure, and reduced $SF_6$ flow rate, the etching selectity (W against SAL resist) was decreased. Due to the difficulty of W etching with single layer resist, sputter deposited $Al_2O_3$ film was used as a hardmask. Reduction of required EB resist thickness through $Al_2O_3$ mask application could reduce proximity effect during e-beam patterning, but the etch anisotropy was degraded by decreased sidewall passiviation effect.
Chun, Hui-Gon;Sochugov, Nikolay S.;You, Yong-Zoo;Soloviv, Andrew A.;Zakharov, Alexander N,
반도체디스플레이기술학회지
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제2권3호
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pp.19-23
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2003
Extended unbalanced magnetron sputtering system based on the cylindrical magnetron with a rotating cathode was developed. The unbalanced configuration of magnetic field was realized by means of additional lines of permanent magnets, placed along both sides of a 89 mm outer diameter and 600 mm long cylindrical cathode. The performance of the unbalanced magnetron was assessed in terms of the ion current density and the ion-to-atom ratio incident at the substrate. Furthermore, the paper presents the comparison of the internal plasma parameters, such as the electron temperature, electron density, plasma and floating potentials, measured by a Langmuir probe in various positions from the cathode, for conventional and unbalanced constructions of the cylindrical magnetron. The plasma density and ion current density are about 3-5 times higher than those of conventional one, in the unbalanced magnetron in a 0.24 Pa Ar atmosphere with a DC cathode power of 3 kW.
The purpose of this paper is to develope an electron beam resist by the plasma polymerization. Plasma co-polymerized resist was prepared using an interelectrode gas-flow-type reactor. And then delineated pattern in the resist was developed with gas flow type reactor using Ar and O$_2$ gas as etching gas. We study about the effects of discharge power and mixing rate of the copolymerized thin film. The characteristics of molecular structure of thin film was investigated by FT-lR, DSC and GPC, and then was discussed in relation to its quality as a resist.
As a one of unsaturated fatty acid, polyunsaturated fatty acids (PUFAs) have multiple actions: as precursor of prostaglandins (PGs), steroid hormone synthesis and energy production in animal reproduction. PUFAs, which include omega-3 (n-3) and omega-6 (n-6), are derived from the diet and changed by diet, species, breed and season. The plasma membrane of spermatozoa in mammals contain various PUFAs. These composition of PUFAs regulate the membrane fluidity and cause lipid peroxidation via generation of reactive oxygen species (ROS). Induced lipid peroxidation by ROS decreased viability and motility of spermatozoa, and it is reduced by addition of antioxidant and low concentration of PUFAs. Because oocytes of animal have a high lipid components, process of oocyte maturation and embryo development are influenced by PUFAs. In in vitro study, oocyte maturation, embryo development, intracellular cAMP and MAPK activity were increased by treatment of n-3 ${\alpha}$-linolenic acid (ALA) during maturation, whereas n-6 linoleic acid (LA) negatively influenced. Also, inhibition of fatty acid metabolism in oocyte influenced blastocyst formation of cattle. PGs are synthesized from PUFAs and various PUFAs influence PGs via regulation of PG-endoperoxide synthase (PTGS). Steroid hormone synthesis from cholesterol is regulated by expression of steroid acute regulator (StAR) protein and mRNA. Exogenous n-3 and n-6 PUFAs altered sex hormone in animal through stimulate or inhibit StAR activity. Because PUFAs altered PG and steroid hormone synthesis, follicular development was influenced by PUFAs. This effect of unsaturated fatty acid could provide information for improvement of reproductive ability in animals.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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