The crystal and molecular structure of acetone 4-benzylthiosemicarbazone, $C_{11}H_{15}N_3S$, has been determined by the single crystal X-ray diffraction methods. The crystals are monoclinic, space group $P2_1/c$ with unit cell dimensions, a = 10.249(7), b = 11.403(9), c = 10.149(7)TEX>${\AA}$, ${\beta}$ = 90.9$(1)^0$ and z = 4. The intensities were collected on an automatic four-circle diffractometer with graphite-monochromated Mo-$K_{\alpha}$ radiation. The structure was solved by direct methods and refined by full matrix least-squares methods. The final R was 0.045 for 1554 observed reflections. S-C(8)-N(2)-N(3)-C(9)-C(10) atoms make a zigzag planar chain. There are no unusual bond lengths and angles. There are two independent hydrogen bonds in the crystal structure. One is N-H${\cdots}$S intermolecular hydrogen bond with the length of 3.555${\AA}$ and makes dimer-like units. The other is N-H${\cdots}$N intramolecular hydrogen bond with the length of 2.568${\AA}$. The structure was compared with those of other thiosemicarbazone derivatives.
The crystal structure of sodium sulfisoxazole hexahydrate, $C_{11}H_{12}N_3O_3SNa{\cdot}6H_2O$,has been determined by X-ray diffraction method. The compound crystallizes in the monoclinic space group $$P2_1}c$$ with a = 15.68(3), b = 7.70(2), c = 17.94(4)${\AA}$, ${\beta}$ = $118(2)^{\circ}$ and Z = 4. A total of 1717 observed reflections were collected by the Weissenberg method with $CuK{\alpha}$ radiation. Structure was solved by heavy atom method and refined by block-diagonal least-squares methods to the R value of 0.14. The conformational angle formed by the S-C(l) bond with that of N(2)-C(7), when the projection in taken along the S-N(2), is $73^{\circ}.$ The benzene ring is planar and makes an angle of $60^{\circ}$ with the plane of the isoxazole ring, which is also planar. The sodium atom has a distorted octahedral coordination of N(l) and five oxygen atoms from hydrate molecules. Sodium sulfisoxazole hexahydrate shows fourteen different hydrogen bondings in the crystal. These are six $O-H{\cdots}O-H bonds, three $O-H{\cdots}O$ bonds, two $O-N{\cdots}N,$ one $N-H{\cdots}O,O-H{\cdots}N,N-H{\cdots}O-H$ bond, with the distances in the range of 2.71 to $3.04{\AA}.$.
This study was carried out to examine the effect of cutting condition on the growth of rooted cuttings and their subsequent growth of cut flower in plug cutting of Dendranthema grandiflorum 'Baekma'. The more leaves were attached to the cutting, the higher shoot growth of rooted cutting was observed. Cutting with two to six leaves was effective in shoot growth and rooting than any other treatment. Shoot growth of rooted cutting was not affected by cutting length, but rooting was better in 5 to 7 cm long cutting. Shoot growth and rooting of rooted cutting was promoted by increasing the cutting diameter, and rooting was better in 3.6-4.2 mm thick cutting than 3.1 mm thick cutting. As the treating concentration of NAA increased, shoot growth was inhibited and root length shortened in rooted cutting. Soaking with $100mg{\cdot}L^{-1}$${\alpha}$-naphtalene acetic acid (NAA) for 1 h was effective in shoot growth and rooting. Root growth such as root number, root length, and root weight was better in rooting medium mixed with 2:2 of peatmoss:perlite than the other treatments. When rooted cutting produced from cutting with four or six leaves was planted, better length, weight, and leaf number of cut flower was observed. In rooted cutting produced with 7-9 cm long cutting, growth of cut flower such as length, weight, and ray flower number was more effective than the others. Therefore, it is recommended that the 7 cm long and 3.6 mm thick cutting with four to six leaves is used to improve their rooting and subsequent growth of cut flower in plug cutting of Dendranthema grandiflorum 'Baekma'.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2009.11a
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pp.183-183
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2009
OLED소자의 양극재료로써 현재는 산화인듐주석(ITO : indium tin oxide) 박막이 널리 이용되고 있다. 그러나 낮은 전기 비저항과 높은 투과도를 갖는 ITO 박막을 얻기 위해서는 $300^{\circ}C$ 이상의 고온에서 성막되어야 하며, 원료 물질인 인듐의 수급량 부족으로 인한 문제점과 독성, 저온증착의 어려움, 스퍼터링 시 음이온 충격에 의한 막 손상으로 저항의 증가의 문제점이 있고, 또한 유기발광소자의 투명전극으로 쓰일 경우에 유기물과의 계면 부적합성, 액정디스플레이의 투명전극으로 사용될 경우에 $400^{\circ}C$정도의 놓은 온도와 수소 플라즈마 분위기에서 장시간 노출 시 열화로 인한 광학적 특성변화가 문제가 된다. 이러한 문제점을 지닌 ITO 박막을 대체할 수 있는 물질로 산화 인듐아연(lZO) 박막이 많은 각광을 받고 있다. IZO(Indium Zinc Oxide) 박막은 저온 ($100^{\circ}C$ 이상)에서 증착이 가능하고 추가적인 열처리 없이도 가시광 영역에서 90% 이상의 광 투과도와 ${\sim}10^{-4}{\Omega}cm$ 이하의 낳은 전기 비저항을 갖는 것으로 알려져 있다. 이러한 IZO박막은 성막 후 고온의 열처리 과정이 필요 없기 때문에 폴리카보네이트와 같은 유기물 기판을 사용하여 제작 가능한 유연한 평판형 표시 소자의 제작에도 적용될 수 있다. IZO(Indium Zinc Oxide) 박막은 상온 공정에서도 우수한 전기적, 광학적, 표면 특성을 나타낼 뿐만 아니라 양극재료로써 높은 일함수를 가지고 있어 고효율의 유기 발광 소자를 구현하는데 유리한 재료라 판단된다. 본 연구에서는 TCO 박막의 면 저항과 표면 거칠기가 OLED 소자의 성능에 미치는 영향을 조사하였다. R.F Magnetron Sputtering을 이용하여 투명 전도막을 성막 형성 하였으며, 기판온도와 증착과정에서 주입되는 산소, 수소의 유랑 변화가 박막의 구조적, 전기적 특성에 어떠한 영향 미치는 것인가를 자세히 규명하였다 ITO 와 IZO박막은 챔버 내 다양한 가스 분위기(Ar, $Ar+O_2$ and $Ar+H_2$) 에서 R.F Magnetron Sputtering 방법으로 증착했다. TCO박막의 구조적인 이해를 돕기 위해서 X-ray diffraction 과 FESEM으로 분석했다. 광학적 투과도와 박막의 두께는 Ultraviolet Spectrophotometer(Varian, cary-500)와 Surface profile mersurement system으로 각각 측정하였다. 면저항, charge carrier농도, 그리고 TCO박막의 이동성과 길은 전기적특성은 Four-point probe와 Hall Effect Measurement(HMS-3000)로 각각 측정한다. TCO 박막의 표면 거칠기에 따른 OLED소자의 성능분석 측면에서는 TCO 박막의 표면 거칠기 조절을 위해 photo lithography 공정을 사용하여 TCO 박막을 에칭 하였다. 미세사이즈 패턴 마스크가 사용되고 에칭의 깊이는 에칭시간에 따라 조절한다. TCO박막의 표면 형태는 FESEM과 AFM으로 관찰하고 그리고 나서 유기메탈과 음극 전극을 연속적으로 TCO 박막위에 증착한다. 투명전극으로 사용되는 IZO기판 상용화를 위해 IZO기판 위에 $\alpha$-NPB, Alq3, LiF, Al순서로 OLED소자를 제작하였다. 전류밀도와 전압 그리고 발광과 OLED소자의 전압과 같은 전기적 특성은 Spectrometer (minolta CS-1000A) 에 의하여 I-V-L분석을 했다.
Objectives: Osteoporosis is the most common metabolic disease of the bone, and is one of the most important major public health problems world wide. It is more occurred in female than male, but as the osteoporosis of men is increasing, therefore bone fractures of men are increasing. So we investigated the factors which are related to Bone Mineral Density(BMD) of male for prevention of osteoporosis. Methods: We measured the Bone Mineral Density(BMD) of lumbar spine($L_2$-$L_4$) and femoral neck in 5198 male, using dual energy X-ray absorptionmetry(DEXA; DPX-alpha). And then we analysed the 8 factors - age group, bone mass index(BMI), amount of smoking, drinking, exercise, and fast blood sugar, gastric disease, thyroid disease - which are related to BMD of male. Results: 1. In age group according to ${\ll}$Hwangjaenaekyong Somun, 黃帝內徑 素問${\gg}$, T-score was the highest at 17-24(三八歲) years group and decreased rapidly after 57-64(八八歲) years group in both lumbar spine($L_2$-$L_4$) and femoral neck. Therefore we concluded that T-score of male in lumbar spine($L_2$-$L_4$) and femoral neck change according to age group in ${\ll}$Hwangjaenaekyong Somun, 黃帝內徑 素問${\gg}$. 2. In BMI(body mass index), T-score of lumbar spine($L_2$-$L_4$) and femoral neck were the highest in obese group than non-obese group. In comparison of age group according to BMI, T-score of lumbar spine($L_2$-$L_4$) was significant difference in 17-72 years group and T-score of femoral neck was in 25-72 years group. 3. In exercise, T-score of lumbar spine($L_2$-$L_4$) and femoral neck was increasing as exercising more. In comparison of age group according to exercise, Both T -score of lumbar spine and femoral neck were significant difference in 25-72 years old. 4. T-score of lumbar spine($L_2$-$L_4$) was the highest in men who have taken exercise daily, and T-score of femoral neck was the highest in men who have taken exercise 1-3 times for a week. Conclusions : The age group in ${\ll}$Hwangjaenaekyong Somun, 黃帝內徑 素問${\gg}$ is related to BMD of men. And risk factors - BMI, exercise - are related to BMD of men. Therefore we expect that this study will help for prevention of osteoporosis of men.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2009.06a
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pp.313-313
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2009
OLED 소자는 직접발광, 광시야각, 그리고 빠른 응답속도 때문에 동영상에 적합하여 최근 각광받고 있는 디스플레이장치 중의 하나이다. OLED 소자의 양극재료로는 높은 광투과율과 $\sim10^{-4}{\Omega}\;cm$ 수준의 낮은 전기 비저항을 갖는 ITO (Sn-doped $In_2O_3$)가 널리 사용되고 있다. 하지만 원료 물질인 인듐의 수급량 부족으로 인한 문제점과 독성, 저온증착의 어려움, 스퍼터링시 음이온 충격에 의한 막 손상으로 저항의 증가의 문제점이 있고, 또한 액정디스플레이의 투명전극으로 사용될 경우 $400\;^{\circ}C$정도의 높은 온도와 수소 플라즈마 분위기에서 장시간 노출 시 열화로 인한 광학적 특성변화가 문제가 된다. 반면에 Al이 도핑 된 ZnO (AZO)박막은 넓은 밴드갭 (3.37eV)와 400nm에서 700nm 사이의 가시광 영역에서 80% 이상의 우수한 투과성을 지니고 있다. 특히 Al이 도핑된 ZnO는 박막의 전기적 특성이 크게 향상되어 디스플레이나 태양전지로의 응용이 가능하다. 또한 비교적 낮은 비용과 플라즈마에서의 안정성, 무독성, 그리고 전기전도성과 같은 많은 이점이 있다. 그 결과 AZO 박막은 ITO기판을 대안하는 지원물질로 활발히 연구가 진행되고 있다. 본 연구에서는 TCO 박막의 면 저항과 표면 거칠기에 따른 OLED 소자의 특성을 분석하였다. ITO와 AZO 박막은 챔버 내 다양한 가스 분위기(Ar, Ar+$O_2$ and Ar+$H_2$)에서 R.F Magnetron Sputtering방법으로 증착하였다. TCO 박막의 구조적인 이해를 돕기 위해서 X-ray diffraction 과 FESEM으로 분석하였다. 광학적 투과도와 박막의 두께는 ultraviolet spectrophotometer (Varian, cary-500)와 surface profile measurement system으로 각각 측정하였다. 면저항 charge carrier 농도, 그리고 TCO 박막의 이동도와 같은 전기적특성은 four-point probe와 hall effect measurement(HMS-3000)로 각각 측정하였다. TCO 박막의 표면 거칠기 조절을 위해 photo lithography 공정을 사용하여 TCO 박막을 화학에칭 하였다. 미세사이즈 패턴 마스크가 사용되었으며 에칭의 깊이는 에칭시간에 따라 조절하였다. TCO 박막의 표면 형태는 FESEM과 AFM으로 관찰하였다. 투명전극으로 사용되는 ITO 및 AZO 기판 상용화를 위해 ITO 및 AZO 기판 위에 ${\alpha}$-NPB, Alq3, LiF, Al 의 순서로 증착 및 패터닝함으로써 OLED 소자를 제작하였다. 전류밀도와 전압 그리고 발광휘도와 전압과 같은 전기적 특성은 spectrometer(minolta CS-1000A)를 이용하여 측정하였다.
Journal of the Korean Society of Food Science and Nutrition
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v.35
no.5
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pp.588-593
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2006
This study was intended to observe possibility of which radiation technique can be used for oligopeptide production from pigskin collagen to reduce environmental pollution in processing and simplify the processing steps. Raw pigskin was ground using chopper, and then defatted in acetone cooled at $-20^{\circ}C$ freezer. Defatted dried pigskin was irradiated at 20, 40, 60, 100, 150, 200, 250, and 300 kGy using Co-60 gamma rays irradiator. With irradiation doses, the amount of soluble proteins increased, and the viscosity and turbidity of soluble proteins decreased, which could be clue of that irradiation degrade high molecular proteins directly. pH of soluble proteins from defatted pigskin increased in the sample above 150 kGy, and low molecular weight components (below 24 kDa) in SDS-PAGE increased. From gel permeation chromatography of the hydrolysates of pigskin irradiated at 300 kGy showed the major peak of 9,000, 8,200, 860, and 170 Da.
Fe-5.7%AI-1.1%Cr-0.5%Si damping alloys containing 0%C and 0.12%C were heat-treated at $800^{\circ}C$ for an hour and then cooled by using some different methods. The damping behaviors of these alloys were observed by optical microscopy, X-ray diffraction and a specific damping capacity(SDC) test. Effect of cooling method on microstructures and the internal stresses of these alloys were negligible while the damping capacity of these alloys was considerably deteriorated by water quenching. The (200) texture was mainly developed by water quenching while the (110) texture by furnace cooling. These results were interpreted by the magnetization behaviors of the ferromagnetic $\alpha$ ferrite. The easy axis of magnetization in <100> direction means that <100> axis has more $180^{\circ}$ magnetic domain walls than $90^{\circ}$ ones. Thus. $180^{\circ}$ magnetic domain walls were more formed by water quenching, which deteriorated the damping capacity of these alloys. Consequently, the amount of magnetic domain walls giving good damping capacity became less so that the damping capacity was poor in water quenching.
Hydrogenated amorphous carbon nitride[a-C:H(N)] films were deposited on p-type Si(100) at room temperature with bias voltage of 200 V by DC saddle-field plasma-enhanced chemical vapor deposition. Effects of the ratio of $N_2$ to $CH_4$($N_2/CH_4$), in the range of 0 and 4 on such properties as optical properties, microstucture, relative fraction of nitrogen and carbon, etc. of the films have been investigated. The thickness of the a-C:H(N) film was abruptly decreased with the addition of nitrogen, but at $N_2/CH_4$>0.5, the thickness of the film gradually decreased with the increase of the $N_2/CH_4$. The ratio of N to C(N/C) of the films was saturated at 0.25 with the increase of $N_2CH_4$. N-H, C≡N bonds of the films increased but C-H bond decreased with the increase of $N_2CH_4$.Optical band gap energy of the film decreased from 2.53 eV at the ratio of $N_2CH_4$=4.
Proceedings of the Korean Powder Metallurgy Institute Conference
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2001.11a
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pp.29-29
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2001
열전재료는 열전현상을 가지고 있어 열전발전과 열선냉각이 가능하기 때분에 해저용, 우주용, 군사용의 특수 전원으로 이미 실용화되어있고, 반도체, 레이저 다이오드, 적외선 검출소자 등의 냉각기로 쓰여지고 있어 많은 연구자들이 이들 재료에 대한 연구에 관을 갖고 열전특성을 향상시키기 위하여 많은 연구를 진행하고 있다 이들 열전재료는 사용 온도구역에 따라 3종류로 구분하고 있으며, 실온부근의 저온 영역(20$0^{\circ}C$)이하에서는 $Bi_2Te_3$계 재료, 중온영역(20$0^{\circ}C$~50$0^{\circ}C$)에서sms (Pb,Ge) Te계 재료, 고온영역(50$0^{\circ}C$~lOoo$^{\circ}C$)에서는 Si-Ge계 Fe Si계 재료가 이용되고 있다. 본 연구에서는 실온에서 성능지수가 높은 Bi_2(Te,Se)_3$에 대한 연구를 진행하였다. Bi_2(Te,Se)_3$계 열전재료는 기존의 공법인 Zone melting법을 이용하는 경우 성능지수가 높으나, 단위정이 Rhombohedral 구조파 기저면(basal plane)에 벽개성이 있는 관계로 재료의 적지 않은 손실과 가공상의 어려움이 있다. 또한 사료전체에 걸쳐 화학적으로 균질한 고용체를 얻는 것도 어려운 문제점으보 부각되고 있디 따라서 이와같은 문제점을 보완하기 위하여 용질원자의 편석감소, 고용도의 증가, 균일 고용체 형성, 결정립의 미세화등의 장점이 있는 급속응고법을 본 연구에 응용하였다. 본 연구에서는 위에서와 같은 급속응고의 장점과 대량 가공이 능늪한 연간압출공정을 이용하여 제조된 분말을 성형화 하였다. 특히 열간압출 가공에 있어서 압축다이 각 변화는 재료의 소성유동에 매우 중요한 역하을 하게되며, 이와 갇은 소성유동은 본 재료의 열전특성에 중요한 영향을 미치는 C 면 배양에 중요한 역할을 한 것으 로 기대된다. 이에 본 연구에서는 압출다이 각도 변화에 따른 미세조직변화와 이들 조직이 강도와 열전특성에 미치는 영향을 석하고자 한다. 압출재의 미세조직은 XRD(X Ray Diffraction), SEM(Scanning Electron Microscopy)으로 분석하였으며, 열전특성인 Seebeck계수($\alpha$)와 전기비저항( $\rho$ )은 열전측정장치로, 기계적 강도는 MTS장비를 이용하여 이루어졌다. 또한 압축다이각도 변화에 따른 결정방위 해석은 모노크로미터가 장착된 X RD장비감 이용하여 분석되었다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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