$SiH_4$ 환원에 의한 Selective CVD-W막 특성에 대한 증착시간과 압력의 효과
(Effect of Deposition Time and Pressure on Properties of Selective CVD-W by $SiH_4$ Reduction)
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- 한국재료학회지
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- 제1권4호
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- pp.177-183
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- 1991