The effects of a Ni coating on the sensing properties of nano ZnO:Ni based gas sensors were studied for $CH_4$ and $CH_3CH_2CH_3$ gases. Nano ZnO sensing materials were prepared by the hydrothermal reaction method. The Ni coatings on the nano ZnO surface were deposited by the hydrolysis of zinc chloride with $NH_4OH$. The weight % of Ni coating on the ZnO surface ranged from 0 to 10 %. The nano ZnO:Ni gas sensors were fabricated by a screen printing method on alumina substrates. The structural and morphological properties of the nano ZnO : Ni sensing materials were investigated by XRD, EDS, and SEM. The XRD patterns showed that nano ZnO : Ni powders with a wurtzite structure were grown with (1 0 0), (0 0 2), and (1 0 1) dominant peaks. The particle size of nano ZnO powders was about 250 nm. The sensitivity of nano ZnO:Ni based sensors for 5 ppm $CH_4$ gas and $CH_3CH_2CH_3$ gas was measured at room temperature by comparing the resistance in air with that in target gases. The highest sensitivity of the ZnO:Ni sensor to $CH_4$ gas and $CH_3CH_2CH_3$ gas was observed at Ni 4 wt%. The response and recovery times of 4 wt% Ni coated ZnO:Ni gas sensors were 14 s and 15 s, respectively.
In this study, the Au/Ni and Au/Ni/Si/Ni layers prepared by electron beam evaporation were used to form ohmic contacts on p-type GaN. Before rapid thermal annealing, the current-voltage(I-V) characteristic of Au/Ni and Au/Ni/Si/Ni contact on p-type GaN film shows non-ohmic behavior. A Specific contact resistance as 3.4$\times$10$^{-4}$ Ω-$\textrm{cm}^2$ was obtained after 45$0^{\circ}C$-RTA. The Schottky barrier height reduction may be attributed to the presence of Ga-Ni and Ga-Au compounds, such as Ga$_4$Ni$_3$, Ga$_4$Ni$_3$, and GaAu$_2$ at the metal - semiconductor interface. The mixing behaviors of both Ni and Au have been studied by using X-ray photoelectron spectroscopy. In addition, X-ray diffraction measurements indicate that the Ni$_3$N, NiGa$_4$, Ni$_2$Si, and Ni$_3$Si$_2$ Compounds were formed at the metal-semiconductor interface.
反應系 $[Ni(H_2O)_6]^{2+}+4CN^-{\rightleftharpoons}[Ni(CN)_4]^{2-}$를 Counductivity-meter를 이용해서 0.005% Gelatin 水溶額에서 反應速度論을 硏究하였다. $[Ni(CN)_4]^{2-}$와 [CN]$^-$의 反應으로 부터 $[Ni(CN)_4]^{2-}$ 生成速度는 $[Ni(H_2O)_6]^{2+}$에 대해서 1次, [CN]$^-$에 대해서 4次인 총괄反應이 5次로 進行됨을 알았으며, 또한 活性化 파라메타 ${\Delta}H^{\neq}$ 와 ${\Delta}S^{\neq}$는 각각 5.15kcal/mole , -35.07 e.u가 되었다. 그리고 이들의 資料로 부터 이 反應系의 타당한 生成메카니즘을 제안하였다.
유리질산 및 불산이 제거된 산세폐액으로부터 Ni을 회수하기 위하여 컬럼식 연속추출장치에 의한 연속실험을 수행하였다. 먼저 Ni 회수 실험에 앞서 폐액중 다량 함유되어 있는 Fe나 Cr을 효과적으로 침전 제거하기 위해서는 중화제로 $CaCO_3$가 적절하며 이대 Ni은 전혀 침전되지 않는다. 한편 컬럼식 연속추출장치에 의한 No의 추출특성을 살펴보면 pulse velosity(Amplitude$\times$Frequency)가 증가함에 따라 수상과 유기상의 혼합효과가 증대되어 Ni의 추출율이 높아지고 이에 딸 HETS도 감소하고 있으나, pulse velosity가 임계치 이상으로 증가하게 되면 수상과 유기상의 강력한 혼합에 의해 원판과 원판사이에 분리층이 형성되지 못하고 컬럼 전체가 완전한 혼합 형태로 되어 추출율이 낮아지고 HETS도 길어지게 된다. 유기상에 추출된 Ni은 탈거시 탈거액으로 2M ${H}_{2}{SO}_{4}$액을 사용하면 효과적으로 농축 회수할 수 있다. 그리고 ${H}_{2}{SO}_{4}$용액중 $NiSO_4$의 용해도는 ${H}_{2}{SO}_{4}$ 농도가 증가함에 따라 감소하여 2M ${H}_{2}{SO}_{4}$ 용액에서는 55 gr/$\ell$ 정도로 나타나고 있으며, 이같은 $NiSO_4$의 과포화특성을 이용하면 탈거액의 증발과정을 거치지 않고 $NiSO_4$결정을 얻을 수 있다.
The electronic structure of the Kondo insulator CeNiSn has been investigated by using photoemission spectroscopy. A satellite feature is observed in the valence band spectrum about 6 eV below the Ni 3d main peak, indicating a strong Ni 3d Coulomb correlation in CeNiSn. The Ce 4f partial spectral weight exhibits three peak structures, including one due to the 4f1\longrightarrow4f0 transition, another near EF, and the other which overlaps the Ni 3d main peak. We interpret the peak near EF as reflecting mainly the Ce 4f/Sn 5p hybridization, whereas that around the ni 3d main peak as reflecting both the Ce 4f/Ni 3d and Ce 5d/Ni 3d hybridization. Yield measurements across the 4d\longrightarrow4f threshold indicate the Ce valence to be close to 3+. The prominent Fermi edge suggests a metallic ground state in CeNiSn.
The sulfidation behavior of a sputter-deposited amorphous coating of 69.0%Nb-16.9Ni-11.9%Al-2.2%Si (at.%) has been investigated as a funtion of temperature.(973-1173K) in pure sulfur pressure of 0.01atm. The sulfidation kinetics of the casting obyed the parabolic rate low over the whole temperature ranges studied. The stlfidation rate increased with the temperature, as expected. The sulfide scale, the composition of which was $Al_2S_3,\;NbS_2,\;Ni_{3-x}S_2\;and\;FeCrS_4$, formed on the amorphous coating was primarily bilayered. Both the outer fastgrowing non-protective 4Al_2S_3$scale and the inner slowly-growing protective $NbS_2$,/TEX> scale and the inner slowly-growing protective $NbS_2$ scale had some Fe and Cr dissolution, which evidently came from the base substrate alloy of stainless steel type 304. Belows the coating, Kirkendall void formation was noticed. Nevertheless, a dramatic improvement of sulfidation resistance was achieved by sputter-depositing Nb-2 Ni-Al-Si layer on the stainless steel 304.
This study was carried out to provide primary data set for cleaning of contamination site. By having hydroponic culture on Salix alba and S. caprea seedling treated with Ni solution, the result of Ni accumulation came out as followings : In a treatment of Ni to the Salix alba and S. caprea, Ni accumulation increased in its root, leaves, and stem, as Ni concentration became higher until $10.0{\mu}mol$. But in a $100.0{\mu}mol$ treatment, the seedlings died after 4 weeks. Ni accumulation in the Salix alba and S. caprea was the highest in its roots, second-highest in leaves, and the lowest in stems. In the case of $10.0{\mu}mol$ treatment of Ni solution, Ni accumulation in roots were above 500.0mg/L, and leaves were above 20.0mg/L. But it was lower than 13.0mg/L in stems. Ni accumulation in the plant increased more when nutrient solution containing Ni was weekly changed than just refilling the same amount of nutrient solution that evaporated Ni accumulation in Salix alba was higher than S. caprea when the nutrient solution had been refilled only.
This study was carried out to investigate the effect of bonding temperature and holding time on microstructure and mechanical properties in brazing joints of Ni-base superalloy using MBF-30 (Ni-4.5Si-3.2B [wt.%]). The heating rate was $20^{\circ}C$/min to the bonding temperatures $1050^{\circ}C$, $1070^{\circ}C$, $1090^{\circ}C$ under high vacuum condition. The holding times were 100s, 400s, 900s and 1600s. $Ni_3B$ phases and proeutectic Ni were observed in the interlayer of Ni-201. Then, Ni3B and Ni3Si were found in the middle region of brazing joint. Cr-boride phase appeared in the interlayer of Inconel-625. Tensile strength and elongation were decreased at $1050^{\circ}C$-1600s, $1070^{\circ}C$-900s and $1090^{\circ}C$-400s. After observation the fracture specimens, There was Ni3B which is very brittle phase in the grain boundary of Ni201.
Nanostructured spinel NiZn ferrites were prepared by the sol-gel method from metal nitrate raw materials. Analyses by X-ray diffraction and scanning electron microscopy showed the average particle size of NiZn ferrite was under 50 nm. The single phase of NiZn ferrites was obtained by firing at 250${\circ}C$, resulting in nanoparticles exhibiting normal ferrimagnetic behavior. The nanostructured $Ni_{1-X}Zn_XFe_2O_4$ (x=0.0∼1.0) were found to have the cubic spinel structure of which the lattice constants ${\alpha}_2$ increases linearly from 8.339 to 8.427 ${\AA}$ with increasing Zn content x, following Vegard's law, approximately. The saturation magnetization $M_s$ was 48 emu/g for x=0.4 and decreased to 8.0 emu/g for higher Zn contents suggesting the typical ferrimagnetism in mixed spinel ferrites. Pure NiZn ferrite phase substituted by Cu was observed before using the additive but hematite phase was partially appeared at $Ni_{0.2}Zn_{0.2}Cu_{0.6}Fe_2O_4$. On the other hand, the hematite phase in this NiZn Cu ferrite was disappeared after using the additive of acethyl aceton with small amount. The saturation magnetization Ms of $Ni_{0.2}Zn_{0.8-y}Cu_yFe_2O_4$(y=0.2∼0.6) as measured was about 51 emu/g at 77K and 19 emu/g at room temperature, respectively.
Chalcogenide $Fe_{0.9}M_{0.1}Cr_2S_4$(M=Co, Ni, Zn)에 대하여 X-선 회절법, 자기저항측정, Mossbauer 분광법을 이용하여 CMR특성과 자기적 성질을 연구하였다. 10 at%의 M 치환에서는 상온에서 입방정으로 정상 spinel 구조를 갖는 것으로 나타났다. 자기저항 실험결과 $T_C$ 부근에서는 도체-반도체 전이의 특성을 보이며 최대자기저항 온도가 나타났다. M$\ddot{o}$ssbauer 분광 실험 결과에서 Fe에 대한 Ni 치환은 초교환 상호작용을 강화시키고 Jahn-Teller 효과에 의한 완화 현상의 심화를 보여준다. CMR 특성은 망간산화물의 $Mn^{3+}$와 $Mn^{4+}$ 사이의 이중교환상호작용과 다르게 동적 Jahn-Teller 효과와 관계된 polaron에 기인한 도체-반도체 전이 의한 것으로 해석된다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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