References
- M. L. Green, M. Y. Ho, B. Busch, G. D. Wilk, T. Sorsch, T. Conard, B. Brijs, W. Vandervorst, P. I. Raisanen, D. Muller, M. Bude, and J. Grazul, J. Appl. Phys., 92, 7168 (2002). https://doi.org/10.1063/1.1522811
- C. S. Kang, H. J. Cho, Y. H. Kim, R. Choi, K. Onishi, A. Shahriar, and J. C. Lee, J. Vac. Sci. Technol. B, 21, 2026 (2003). https://doi.org/10.1116/1.1603285
- C. K. Hu, L. Gignac, S. G. Malhotra, R. Rosenberg, and S. Boettcher, Appl. Phys. Lett., 78, 904 (2001). https://doi.org/10.1063/1.1347400
- K. H. Min, K. C. Chun, and K. B. Kim, J. Vac. Sci. Technol. B, 14, 3263 (1996). https://doi.org/10.1116/1.588818
- J. S. Park, M. J. Lee, C. S. Lee, and S. W. Kang, Electrochem. Solid State Lett., 4, C17 (2001). https://doi.org/10.1149/1.1353160
- A. Arranz and C. Palacio, Surf. Interface Anal. 29, 653 (2000). https://doi.org/10.1002/1096-9918(200010)29:10<653::AID-SIA913>3.0.CO;2-T
- P. Lamour, P. Fioux, A. Ponche, M. Nardin, M. F. Vallat, P. Dugay, J. P. Brun, N. Moreaud, and J. M. Pinvidic, Surf. Interface Anal., 40, 1430 (2008). https://doi.org/10.1002/sia.2919
- S. K. Yang, H. H. Kim, B. H. O, S. G. Lee, E. H. Lee, S. G. Park, S. P. Chang, J. G. Lee, and H. Y. Song, J. Korean Phys. Soc., 51, S198 (2007). https://doi.org/10.3938/jkps.51.198
- M. H. Shin, M. S. Park, N. E. Lee, J. Kim, C. Y. Kim, and J. Ahn, J. Vac. Sci. Technol. A, 24, 1373 (2006). https://doi.org/10.1116/1.2210944
- K. Nakamura, T. Kitagawa, K. Osari, K. Takahashi, and K. Ono, Vacuum, 80, 761 (2006). https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2005.11.017
- B. H. Lee, R. Choi, L. Kang, S. Gopalan, R. Nieh, K. Onishi, Y. Jeon, W. J. Qi, C. Kang, and Jack C. Lee, Tech. Dig. Int. Electron Devices Meet, 39 (2000).
- A. Le Gouil, O. Joubert, G. Cunge, T. Chevolleau, L. Vallier, B. Chenevier and I. Matko, J. Vac. Sci. Technol. B, 25, 767 (2007). https://doi.org/10.1116/1.2732736
- S. H. Kim, S. H. Woo, H. C. Kim, I. H. Kim, K. W. Lee, W. H. Jeong, T. Y. Park, and H. T. Jeon, J. Korean Phys. Soc., 52, 1103 (2008). https://doi.org/10.3938/jkps.52.1103
- C. Q. Jiao, R. Nagpal, P. Haaland, Chem. Phys. Lett., 265, 242 (1997).
- M. H. Shin, S. W. Na, N. E. Lee, and J. H. Ahn, Thin Solid Films, 506, 230 (2006).
- F. A. Khan, L. Zhou, V. Kumar, I. Adesida, and R. Okojie, Mat. Sci. Eng. B, 95, 51 (2002). https://doi.org/10.1016/S0921-5107(02)00160-5
- S. M. Koo, D. P. Kim, K. T. Kim, and C. I. Kim, Mat. Sci. Eng. B, 118, 201 (2005). https://doi.org/10.1016/j.mseb.2004.12.029