References
- M. Oh-E and K. Kondo, Appl. Phys. Lett. 67, 3895 (1995) [DOI: 10.1063/1.115309].
- H. Y. Kim, I. S. Song, and S. H. Lee, Trans. Electr. Electron. Mater. 4, 24 (2003).
- J. H. Song and S. H. Lee, Jpn. J. Appl. Phys. 43, L1130 (2004) [DOI: 10.1143/JJAP.43.L1130].
- J. H. Song, S. H. Lee, D. S. Kim, H. S. Soh, and W. Y. Kim, Mol. Cryst. Liq. Cryst. 433, 105 (2005) [DOI: 10.1080/15421400590955505].
- T. B. Jung, J. C. Kim, and S. H. Lee, Jpn. J. Appl. Phys. 42, L464 (2003) [DOI: 10.1143/JJAP.42.L464].
- G. D. Lee, G. H. Kim, S. H. Moon, J. D. Noh, S. C. Kim, W. S. Park, T. H. Yoon, J. C. Kim, S. H. Hong, and S. H. Lee, Jpn. J. Appl. Phys. 39, L221 (2000) [DOI: 10.1143/JJAP.39.L221].
- S. H. Lee, S. H. Hong, H. Y. Kim, D. S. Seo, G. D. Lee, and T. H. Yoon, Jpn. J. Appl. Phys. 40, 5334 (2001) [DOI: 10.1143/JJAP.40.533].
- T. B. Jung, J. H. Song, D. S. Seo, and S. H. Lee, Jpn. J. Appl. Phys. 43, L1211 (2004) [DOI: 10.1143/JJAP.43.L1211].
- J. B. Park, H. Y. Kim, Y. H. Jeong, D. H. Lim, S. Y. Kim, Y. J. Lim, and S. H. Lee, Jpn. J. Appl. Phys. 44, 6695 (2005) [DOI: 10.1143/JJAP.44.6695].
- Y. J. Lim, Y. H. Jeong, M. O. Choi, W. G. Jang, and S. H. Lee, Jpn. J. Appl. Phys. 44, L1532 (2005) [DOI: 10.1143/JJAP.44.L1532].
- O. Itou, S. Hirota, J. Tanno, M. Morimoto, K. Igeta, H. Imayama, S. Komura, and T. Nagata, Proceedings of the 13th International Display Workshops (IDW '06) (Otsu 2006) p. 635.
- S. Hirota, S. Oka, O. Itou, K. Igeta, M. Morimoto, H. Imayama, S. Komura, and T. Nagata, SID International Symposium Digest of Technical Papers (Long Beach, CA 2007) p. 1661
- T. Ochiai, T. Sasaki, T. Miyazawa, M. Maki, M. Morimoto, and M. Ohkura, SID International Symposium Digest of Technical Papers (Long Beach, CA 2007) p. 1258.
- J. H. Song, Y. J. Lim, M. H. Lee, S. H. Lee, and S. T. Shin, Appl. Phys. Lett. 87, 11108 (2005) [DOI: 10.1063/1.1991981].
- Y. J. Lim, M. H. Lee, G. D. Lee, W. G. Jang, and S. H. Lee, J. Phys. D: Appl. Phys. 40, 2759 (2007) [DOI: 10.1088/0022-3727/40/9/013].
- Z. Ge, T. X. Wu, and S. T. Wu, Appl. Phys. Lett. 92, 051109 (2008) [DOI: 10.1063/1.2841847].
- J. H. Kim, M. H. Chin, E. Jeong, Y. J. Lim, A. K. Srivastava, and S. H. Lee, SID International Symposium Digest of Technical Papers (Los Angeles, CA 2008 p. 1931.
- S. H. Lee, S. H. Hong, J. M. Kim, H. Y. Kim, and J. Y. Lee, J. Soc. Infor. Display 9, 155 (2001) [DOI: 10.1889/1.1828781].
- J. H. Song, J. M. Rhee, C. J. Lee, D. G. Moon, J. I. Han, and S. H. Lee, Jpn. J. Appl. Phys. 44, 225 (2005) [DOI: 10.1143/JJAP.44.225].
- A. Lien, Appl. Phys. Lett. 57, 2767 (1990) [DOI: 10.1063/1.103781].
Cited by
- Dry Etching of ITO Thin Films by the Addition of Gases in Cl2/BCl3Inductivity Coupled Plasma vol.13, pp.3, 2012, https://doi.org/10.4313/TEEM.2012.13.3.157