Laser absorption spectroscopy of ternary gas mixture of He-Ne-Xe in External Electrode Fluorescent Lamp (EEFL)

레이저 흡수 분광법을 이용한 He-Ne-Xe 상종가스의 외부전곡 램프의 $1s_4$ 공명준위와 $1s_5$ 준안정준위의 제논 원자 밀도에 대한 연구

  • Jeong, S.H. (Charged Particle Bean and Plasma Lab./PDP Research Center Department of Electrophysics, Kwangwoon University) ;
  • Oh, P.Y. (Charged Particle Bean and Plasma Lab./PDP Research Center Department of Electrophysics, Kwangwoon University) ;
  • Lee, J.H. (Charged Particle Bean and Plasma Lab./PDP Research Center Department of Electrophysics, Kwangwoon University) ;
  • Cho, G.S. (Charged Particle Bean and Plasma Lab./PDP Research Center Department of Electrophysics, Kwangwoon University) ;
  • Choi, E.H. (Charged Particle Bean and Plasma Lab./PDP Research Center Department of Electrophysics, Kwangwoon University)
  • 정세훈 (광운대학교 전자물리학과/PDP 연구센터) ;
  • 오필용 (광운대학교 전자물리학과/PDP 연구센터) ;
  • 이준호 (광운대학교 전자물리학과/PDP 연구센터) ;
  • 조광섭 (광운대학교 전자물리학과/PDP 연구센터) ;
  • 최은하 (광운대학교 전자물리학과/PDP 연구센터)
  • Published : 2006.11.30

Abstract

Mercury-free lamp, external electrode fluorescent lamp (EEFL) which includes the xenon gas, is now going on the research for the replacement of mercury lamp. The densities of excited xenon atom in the $1s_4$ resonance state and the $1s_5$ metastable state are investigated in the EEFL by a laser absorption spectroscopy under various gas pressures. We have measured the absorption signals for both $1s_4$ resonance and the $1s_5$ metastable state in the EEFL by varying the discharge currents for a given pressure. This basic absorption characteristic is very important for improvement of the VUV luminous efficiency of the EEFL as well as plasma display panel.

본 논문에서는 수은 램프를 대체하기 위하여 제논 기체를 사용한 무수은 램프를 제작하여 제논 여기종 밀도에 대한 연구를 진행하였다. 진공자외선을 방사할 수 있는 $1s_4$ 공명준위의 제논 원자 밀도와 $1s_5$ 준안정준위의 제논 원자 밀도를 레이저 흡수 분광법을 사용하여 다양한 기체조건 및 방전전류에 따라서 측정하였다. 우리는 주어진 압력에서 방전전류에 따른 $1s_4$ 공명준위의 제논 원자 밀도와 $1s_5$ 준안정준위의 제논 원자 밀도를 측정하였으며 이러한 기본적인 방전 특성의 이해는 EEFL뿐만 아니라 플라스마 디스플레이에서도 발광 효율을 높이는데 매우 큰 기여를 할 것이다.

Keywords

References

  1. J. C. Ahn, T. Y. Kim, J. J. Ko, Y. Seo, G. S. Cho, and E. H. Choi, J. Appl. Phys. 87, 8045 (2000) https://doi.org/10.1063/1.373495
  2. E. H. Choi, J. C. Ahn, M. W. Moon, Y. Jung, M. C. Choi, Y. H. Seo, G. S. Cho, H. S. Uhm, K. Tachibana, K. W. Whang, and Kristiansen, Appl. Phys. Lett. 81, 3341 (2002) https://doi.org/10.1063/1.1518772
  3. P. Y. Oh, J. H. Lee, S. H. Jeong, H. S. Moon, S. B. Lee, K. B. Song, Y. Jung, Y. K. Kim, G. S. Cho, H. S. Uhm, and E. H. Choi, IEEE transactions on plasma science, 34, (2006)
  4. K. C. Harvey and C. J. Myatt, Appl. Phys. Lett. 65, 935 (1994) https://doi.org/10.1063/1.112154
  5. Hans R. Griem, Principles of Plasma Spectroscopy (Cambridge University Press, 1997)
  6. H. Doyeux and J. J. Deschamps, SID '97 Digest. 213 (1997)
  7. S. Mikoshiba and S. Murayama, Appl. Phys. Lett. 37, 529 (1980) https://doi.org/10.1063/1.91974