Characteristics of TiN Films by ion Beam Assisted Deposition

이온빔 보조 증착에 의한 TiN 박막의 특성

  • 김상현 (성균관대학교 물리학과) ;
  • 김대현 (동남보건대학교 안경광학과)
  • Received : 2004.02.28
  • Published : 2004.04.24

Abstract

In this research, TiN films has been grown to the stainless steel substrate by ion beam assisted deposition. TiN film was grown to the nitrogen atmosphere of around $10^{-15}$ Torr with Arion bombardment. The chemical composition, color and adhesion of TiN films were examined as a variation of En(ion energy per atom). The N/Ti ratio increased linearly as the increase of En and saturated around 1.2 at high En. As a results, the bright golden color was obtained when En reached a certain value of Ecn. As a results, the N/Ti ratio is about 0.9.

본 연구에서는 이온빔 증착방법을 사용하여 스테인레스 스틸 기판 위에 TiN 박막을 성장하였다. $10^{-5}$ Torr의 질소 분위기에서 아르곤 가스를 보조 이온빔으로 사용하여 TiN 박막을 성장하였다. TiN 박막의 화학 조성, 색상, 밀착력 등을 En의(원자당 이용에너지) 변화에 따라서 측정하였다. En이 증가 할 때 질소와 Ti의 비율은 선형적으로 변화 하였고, 높은 En의 경우에는 질소와 Ti의 비율은 1.2를 가지며 포화되었다. 밝은 금색은 En이 어떤 임계값(Ecn)에 도달 하였을 때 얻어졌다. 이때의 질소와 Ti의 비율은 0.9 이다.

Keywords