Applied Microscopy
- Volume 30 Issue 3
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- Pages.249-254
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- 2000
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- 2287-5123(pISSN)
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- 2287-4445(eISSN)
A Study on the Interfacial Reaction of Co/Al Multilayer System
Co/Al 다층 박막 구조 시스템에서의 열처리에 따른 계면 반응에 관한 연구
- Kang, Sung-Kwan (Department of Ceramic Engineering, Yonsei University) ;
- Lee, Sang-Hoon (Department of Ceramic Engineering, Yonsei University) ;
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Ko, Dae-Hong
(Department of Ceramic Engineering, Yonsei University)
- Published : 2000.09.01
Abstract
We investigated the microstructure, electrical property, and magnetic property of Co/Al multilayer after annealing treatment. CoAl was formed during depositing Co/Al multilayer due to the interfacial reaction. After annealing treatment,
Co/Al 다층 박막을 2 nm/2 nm, 5 nm/5 nm, 10 nm/10 nm의 두께로 증착한 후, 후속 열처리에 따른 Co/Al 다층 박막의 미세구조와 전기적, 자기적 특성 변화를 관찰하였다. 증착 중에 계면 반응에 의해 CoAl 화합물이 형성되는 사실을 확인하였으며, 후속 열처리에 의해 결정질 화합물 CoAl상의 형성 반응이 활발하게 일어나고, Si과의 계면에서는