References
- Proceedings of The IEEE v.82 no.7 Ivor Brodie;Paul Richard Schwoebel
- J. Appl. Phys. v.76 no.6 I. J. Hsieh;K. T. Chu;C. F. Yu;M. S. Feng
- J. Electrochem Soc. v.138 no.5 S. Itoh;H. Toki;Y. Sato;K. Morimoto;T. Kishino
- J. Luminescence v.48 T. Abritta;F.H. Blak
- Solid State Communications v.80 no.3 W. C. Zheng
- J. Chem. Phys. v.54 no.12 H. M. Kahan;R. M. Macfarlane
- J. Electrochem. Soc. v.142 no.5 W. Jia;H. Liu;S. Huang;X. Wu;L. Lu;W. M. Yen
- J. Appl. Phys. v.78 no.9 T. K. Tran;W. Park;J. W. Tomm;B. K. Wagner;S. M. Jacobsen;C. J. Summers;P. N. Yocom;S. K. MaClelland
- ASIA DISPLAY '95 v.639 S. Itoh;Y. Yonezawa;H. Tiki;Y. Kagawa
- SID 95 DIGEST v.619 D. W. Smith;A. Vecht;C. S. Gibbons;D. Morton;C. Walding
- J. Vac. Sci. Technol. v.6 no.838 J. B. Lounsbury
- J. Appl. Phys. v.51 no.10 C. R. Aita;A. J. Purdes;R. J. Lad;P. D. Funkenbusch
- J. Appl. Phys. v.79 no.9 C. F. Yu;P. Lin
- J. Electrochem. Soc. v.141 no.6 I. J. Hsieh;M. S. Feng;K. T. Kuo;P. Lin
- Appl. Phys. Lett. v.64 no.9 T. Omata;N. Ueda;K. Ueda;H. Kawazoe
- Jpn. J. Appl. Phys. v.34 T. Minami;T. Maeno;Y. Kuroi;S. Takata
- Proceedings ICF-5 K. Matsumoto;S. Nakagawa;M. Naoe
- J. Mater. Res. v.9 no.9 H. S. Cho;M. H. Kim;H. J. Kim
- J. Cryst. Growth v.87 no.13 N. B. Ming;I. Sunagawa
- Jpn. J. Appl. Phys. v.35 no.11 P. Lin;C. F. Yu