다층 배선 구조를 갖는 Sub-Micron CMOS에서의 Contact 평탄화 기술

  • 이상인 (삼성전자(주) 반도체부문 기반기술센터) ;
  • 이정규 (삼성전자(주) 반도체부문 기반기술센터)
  • Published : 1992.05.01