Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference (한국진공학회:학술대회논문집)
- 2013.08a
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- Pages.123.1-123.1
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- 2013
Modulated Pulsed Power를 이용한 Cr 박막의 증착과 특성 분석
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Min, Gwan-Sik
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Song, Je-Beom
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Yun, Ju-Yeong
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Sin, Yong-Hyeon
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- Cha, Deok-Jun ;
- Hwang, Yun-Seok ;
- Heo, Yun-Seong ;
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Kim, Jin-Tae
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민관식
(한국표준과학연구원)
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송제범
(한국표준과학연구원)
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윤주영
(한국표준과학연구원)
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신용현
(한국표준과학연구원)
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- 차덕준 (군산대학교 물리학과) ;
- 황윤석 ((주)화인솔루션) ;
- 허윤성 ((주)화인솔루션) ;
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김진태
(한국표준과학연구원)
- Published : 2013.08.21
Abstract
반도체 공정에서는 사용하는 power source의 형태는 pulse-DC이다. Pulse-DC는 DC power에 비해 증착율이 좋고, 박막의 특성도 우수한 특성을 가진다. 이러한 장점에도 불구하고 pulse-DC나 DC power는 플라즈마 내 이온이 가지는 에너지가 크고, 이온화율도 낮다. 이러한 단점을 극복하기 위해 등장한 power source가 modulated pulsed power이다. Modulated pulsed power는 이온이 가지는 에너지가 DC power의 1/2 수준이며, 이온화율은 4배 이상 높은 특징을 가진다. 본 연구에서는 modulated pulsed power를 사용하여 Cr 박막을 Si wafer 위에 증착하여 박막의 특성을 관찰하였다. 연구에 사용된 power는 5 kV (800 V, 12.5 A), 20~120 KHz, 3 step까지 설정이 가능한 장비이며, base pressure