Proceedings of the Korean Society of Precision Engineering Conference (한국정밀공학회:학술대회논문집)

2012.10a
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Pages.337-338
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2012
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2005-8446(pISSN)

Korean Society for Precision Engineering (한국정밀공학회)

권호 표지

Mask design for Uniformity of Si Nanowire fabricated by Top-down approach in 8-inch class large area

8인치급 대면적에서 Top-down 방식으로 제작된 Si Nanowire의 Uniformity를 고려한 Mask Design

Lee, J.H. ;
Cho, Y.H. ;
Kim, S.M. (Dep. of Electrical and Computer Engineering, Texas A&M University) ;
Park, S.H. ;
Heo, Y.S.

이준형 (서울과학기술대학교 기계시스템디자인공학과) ;
조영학 (서울과학기술대학교 기계시스템디자인공학과) ;
김성만 ;
박상희 ((주)마이크로프랜드) ;
허윤석 ((주)마이크로프랜드)

Published : 2012.10.24

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