한국신재생에너지학회:학술대회논문집
- 2011.05a
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- Pages.103.2-103.2
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- 2011
Ag nanorod manufacturing using nano-imprint lipography process and application of amorphous thin film solar cells
나노 임프린트 공정을 이용한 Ag 나노로드 제조 및 비정질 박막 태양전지 적용
- Jang, JiHoon ;
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Han, Kang-Soo
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Cho, Jun-Sik
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Lee, Heon
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Park, Hai Woong
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Song, Jinsoo
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Lee, Jeong Chul
- 장지훈 (한국에너지기술연구원) ;
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한강수
(고려대학교) ;
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조준식
(한국에너지기술연구원) ;
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이헌
(고려대학교) ;
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박해웅
(한국기술교육대학교) ;
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송진수
(한국에너지기술연구원) ;
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이정철
(한국에너지기술연구원)
- Published : 2011.05.26
Abstract
비정질 실리콘 태양전지의 효율을 증가하기 위하여 많이 사용되는 방법 중 하나는 입사되는 빛의 산란을 증가하여 태양전지의 광흡수를 증가시키는 방법이다. 이를 위하여 양극전극으로 사용되는 TCO층의 일정한 패턴 처리를 통하여 광산란을 증가시키는 방법이 사용되고 있다. 본 연구에서는 나노 임프린트 리소그래피방법을 사용하여 Ag 나노로드를 증착한 기판을 제조하고 이를 비정질 실리콘 태양전지에 적용하였다. 실험결과, 그림과 같이 높이와 너비가 300nm 정도로 일정한 패턴의 Ag 나노로드를 제조하였다. 또한, 그 위에 증착된 Si 박막의 경우, 나노로드 전체를 감싸는 돔 형태로 성장하였다. 이와 같은 나노로드 위에 substrate n-i-p 구조의 비정질 박막 태양전지를 증착하고 그 특성변화를 분석하고자 하였다.