The crystalline property of silicon thin films deposited by ICP-assisted CFUBM system

  • 신경식 (플라즈마 응용 표면기술 연구센터, 성균관대 신소재공학과) ;
  • 최윤석 (플라즈마 응용 표면기술 연구센터, 성균관대 신소재공학과) ;
  • 최인식 (플라즈마 응용 표면기술 연구센터, 성균관대 신소재공학과) ;
  • 한전건 (플라즈마 응용 표면기술 연구센터, 성균관대 신소재공학과)
  • Published : 2009.08.19