Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference (한국전기전자재료학회:학술대회논문집)

The Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers (한국전기전자재료학회)
권호 표지

DC Magnetron Sputtering 공정변수에 따른 GxZO박막의 성장 거동

  • 박문기 (LG 디스플레이 공정개발담당) ;
  • 서경한 (LG 디스플레이 공정개발담당) ;
  • 김철우 (LG 디스플레이 공정개발담당) ;
  • 유용우 (LG 디스플레이 공정개발담당) ;
  • 임경남 (LG 디스플레이 공정개발담당) ;
  • 유상전 (LG 디스플레이 공정개발담당)
  • Published : 2009.11.12
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Abstract

In the present study, impurities doped GxZO thin films were prepared by dc-magnetron sputtering on glass substrate and effect of processing variables on the growth behavior was investigated.

Keywords