Properties of $(SiO_2)_x(ZnO)_y$ gas barrier films using facing target sputtering system with low temperature deposition process for flexible displays

플렉서블 디스플레이용 저온공정을 갖는 대향 타겟식 스퍼터링 장치를 이용한 $ZrO_2$ 보호막의 특성

  • Cho, Do-Hyun (Department of Electronics Engineering, Catholic University of Daegu) ;
  • Kim, Ji-Hwan (Department of Electronics Engineering, Catholic University of Daegu) ;
  • Lee, Jae-Hwan (Department of Electronics Engineering, Catholic University of Daegu) ;
  • Ryu, Sung-Won (Department of Electronics Engineering, Catholic University of Daegu) ;
  • Sohn, Sun-Young (Department of Electronics Engineering, Catholic University of Daegu) ;
  • Park, Sung-Hwan (Department of Electronics Engineering, Catholic University of Daegu) ;
  • Kim, Jong-Jae (Department of Electronics Engineering, Catholic University of Daegu)
  • 조도현 (대구가톨릭대학교 전자공학과) ;
  • 김지환 (대구가톨릭대학교 전자공학과) ;
  • 이재환 (대구가톨릭대학교 전자공학과) ;
  • 유성원 (대구가톨릭대학교 전자공학과) ;
  • 손선영 (대구가톨릭대학교 전자공학과) ;
  • 박승환 (대구가톨릭대학교 전자공학과) ;
  • 김종재 (대구가톨릭대학교 전자공학과)
  • Published : 2008.11.06

Abstract

본 실험에서는 대향 타겟식 스퍼터링 (face target sputtering, FTS) 장비를 사용하여 플렉서블 디스플레이용 poly ethylene naphthalate (PEN) 플라스틱 기판 위에 보호층으로 사용된 $ZrO_2$ 박막의 특성들에 대해 연구하였다. FTS에 의해 3 시간동안 증착된 $ZrO_2$ 박막의 기판 온도는 $69^{\circ}C$ 로 낮은 증착 온도를 나타내었으며, 이는 유리전이온도가 낮은 PEN 과 같은 플라스틱 기판위에 박막 증착시 적용하기에 적합하다. 제작된 $ZrO_2$ 박막에서 기판 중심으로부터 거리의 함수로 측정된 박막의 두께 차이는 약 4.5%로 매우 균일한 두께를 갖는 것으로 측정되었다.

Keywords