Poly Si Wafer의 표면 특성변화에 따른 CMP 공정 후 오염 Mechanism의 규명

• Gang, Bong-Gyun ;
• Park, Jin-Gu ;
• Gang, Yeong-Jae ;
• Jo, Byeong-Gwon ;
• Hong, Ui-Gwan ;
• Han, Sang-Yeop ;
• Yun, Seong-Gyu ;
• Yun, Bo-Eon ;
• Hong, Chang-Gi

• 강봉균 (한양대학교 바이오나노학과) ;
• 박진구 (한양대학교 금속재료공학과) ;
• 강영재 (한양대학교 금속재료공학과) ;
• 조병권 (한양대학교 바이오나노학과) ;
• 홍의관 (삼성전자) ;
• 한상엽 (삼성전자) ;
• 윤성규 (삼성전자) ;
• 윤보언 (삼성전자) ;
• 홍창기 (삼성전자)

• Published : 2007.11.02

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