NO와 $NH_3$ rapid thermal nitridation 공정에 따른 SiON 막질 분석

• 이우정 (한밭대학교 정보통신공학과) ;
• 이정한 (한국표준과학연구원) ;
• 이연승 (한밭대학교 정보통신공학과) ;
• 조만호 (연세대학교 물리학과) ;
• 이연진 (한국표준과학연구원)

• Lee, U-Jeong ;
• Lee, Jeong-Han ;
• Lee, Yeon-Seung ;
• Jo, Man-Ho ;
• Lee, Yeon-Jin

• 발행 : 2007.08.15

• PDF