Effect of $SiO_2$ RF Power and Deposition Time in High-k $TiO_2-SiO_2$ Dielectric Layers

$SiO_2$ RF Power와 증착 시간 변화에 따른 고유전 $TiO_2-SiO_2$ 절연막의 특성

  • 김성연 (연세대학교 신소재공학과) ;
  • 함문호 (연세대학교 신소재공학과) ;
  • 명재민 (연세대학교 신소재공학과)
  • Published : 2007.05.10