대한전기학회:학술대회논문집 (Proceedings of the KIEE Conference)
- 대한전기학회 2007년도 제38회 하계학술대회
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- Pages.1353-1354
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- 2007
원자층 증착법으로 형성된 $Al_{2}O_{3}$ 층을 이용한 MOS 구조에서 폴리 실리콘 층의 전기적 특성에 관한 연구
Electrical Properties of poly Si layers embedded in metal-oxide-semiconductor structure by using atomic-layer-deposited alumina layers as blocking oxide
- Park, Byoung-Jun (Department of Electrical Engineering and Institute for Nano Science, Korea University) ;
- Cho, Kyoung-Ah (Department of Electrical Engineering and Institute for Nano Science, Korea University) ;
- Kim, Sang-Sig (Department of Electrical Engineering and Institute for Nano Science, Korea University)
- 발행 : 2007.07.18
초록
폴리 실리콘 층의 유무에 따른 금속-옥사이드-반도체(MOS) 구조의 소자를 제작하였다. 터널링 산화막과 블로킹 산화막으로는
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