Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference (한국전기전자재료학회:학술대회논문집)
- 2006.05a
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- Pages.140-143
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- 2006
Optimization of Reactive Ion Etching of Benzocyclobutene
Reactive Ion Etching을 사용한 Benzocyclobutene Etching의 최적화
- Park, Bo-Hyeon (Department of Electronics Engineering and Semiconductor Technology Center, Myoungji University) ;
- Soh, Dea-Wha (Department of Electronics Engineering and Semiconductor Technology Center, Myoungji University) ;
- Hong, Sang-Jeen (Department of Electronics Engineering and Semiconductor Technology Center, Myoungji University)
- Published : 2006.05.19
Abstract
차세대 반도체 공정을 위한 많은 노력 중 미세가공의 중요성이 날로 증가함에 따라 reactive ion etching (RIE)에 대한 연구 또한 그 중요성이 커지고 있으며, 현재 제조공정 라인에서는 공정상의 오류를 줄이는 노력에 주목하고 있다. 본 논문에서는 RIE 과정에서 etch rate과 uniformity에 영향을 줄 수 있는 요인 4 가지 즉,