Characteristics of carbon Nanotubes grown by Hot Filament Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition method with iron(III) nitrate metal oxide concentration

Hot filament 화학기상증착법을 이용한 질산화철 촉매농도에 따른 탄소나노튜브의 성장 특성

  • Jung, Kyung-Ho (School of information and communication Engineering, Sungkyunkwan University) ;
  • Cho, Won-Seok (Center for Advanced plasma Surface Technology, Sungkyunkwan University) ;
  • Kim, Hyung-Jin (Center for Advanced plasma Surface Technology, Sungkyunkwan University) ;
  • Hong, Byung-You (Center for Advanced plasma Surface Technology, Sungkyunkwan University)
  • Published : 2004.07.05

Abstract

Hot filament 플라즈마 화학기상 증착법(HFPECVD)를 사용하여 질산화철의 농도에 따른 탄소나노튜브의 성장 특성을 관찰하기 위해 실험을 진행하였다. 암모니아($NH_3$)를 희석가스로 사용하였고, 아세틸렌($C_2H_2$)를 탄소 원료가스로 각각 사용하였다. 암모니아 가스 플라즈마를 사용하여 전처리 된 질산화철 촉매층의 SEM(Scanning Electron Microscopy) 이미지를 관찰하여 본 결과, 나노 사이즈의 촉매 그레인(grain)을 발견할 수 있었다. 그리고 탄소 나노튜브의 직경과 성장 밀도 또한 전처리 된 촉매 층에 따라 다른 양상을 보였다. TEM(Transmission Electron Microscopy)를 사용하여 탄소나노튜브를 관찰한 결과 bamboo 구조를 한 다중벽 탄소 나노튜브(MWCNT)를 관찰할 수 있었다.

Keywords