Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference (한국전기전자재료학회:학술대회논문집)

The Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers (한국전기전자재료학회)
권호 표지

Fabrication of coated conductor by continuous PVD methods

연속 공정 PVD 방법에 의한 coated conductor 제조

  • Published : 2004.07.05
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Abstract

다층의 산화물 박막 구조를 갖는 coated conductor의 장선 제조를 위해서는 연속 증착 공정이 필요하다. 본 연구에서는 RABiTs와 IBAD 공정을 사용한 texture template을 사용하였으며, 금속 테잎을 연속적으로 이동하면서 증착할 수 있는 박막증착 장치(PLD, sputtering, evaporation)를 구축하여 PVD 방법으로 coated conductor를 제조하였다. $CeO_2/YSZ/Y_2O_3$의 완충층을 sputtering 과 evaporation을 이용하여 2축배향성을 가지는 NiW 위에 연속적으로 증착하였다. YBCO 초전도층은 연속 PLD 방법으로 증착하고, Tc, Ic, XRD, SEM을 통해 그 특성을 분석하였다. 그 결과 RABiTS template을 사용하여 Ic가 34A/cm(@77K)인 0.4m 길이의 coated conductor를 제조하였다. IBAD template를 사용하여 Ic가 34A/cm(@77K)인 0.5m길이의 coated conductor를 제조하였고, Jc는 $1.2MA/cm^2$ 이였다.

Keywords