대한전자공학회:학술대회논문집 (Proceedings of the IEEK Conference)
- 대한전자공학회 1998년도 하계종합학술대회논문집
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- Pages.473-476
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- 1998
폴리사이드 구조에서 dual 게이트 산화막에 대한 공정특성 연구
A study on the process characteristics of polycide based dual gate oxidation
초록
ULSI 소자에서 폴리사이드 구조를 사용하고 dual 게이트 산화막에 대한 공정 특성을 최적화 하는 2스텝 게이트 산화막의 형성 공정에 관한 연구를 하였다. 이러한 특성의 측정은 HP4145B 파라메터 분석기와 C-V meter 그리고 multi-frequency LcR meter를 사용하여 2스텝 산화막의 공정 방법과 cleaning에 따른 게이트 사화막의 공정 특성에 대한 연관 관계로 연구하였다. I-V 특성 면에서는 G
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