Dose에 따른 gas cluster ion beam 조사에 의한 Si 및 ITO 표면 식각 메카니즘

  • 송재훈 (한국과학기술연구원 박막기술연구센터) ;
  • 최덕균 (한양대학교 무기재료공학과) ;
  • 최원국 (한국과학기술연구원 박막기술연구센터)
  • Published : 2002.02.19