Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference (한국재료학회:학술대회논문집)
- 2000.11a
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- Pages.53-53
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- 2000
Study of Interaction between slurry and substrate using Atomic Force Microscope to post Chemical Mechanical Planarization Cleaning
CMP 후 세정공정 중 AFM을 이용한 Slurry 입자와 기판간의 상호작용에 관한 연구
Abstract
Keywords