Chemical Vapor Deposition of Cu thin film from (hfac)Cu(DMB) and water vapor

(hfac)Cu(DMB)를 이용한 Cu MOCVD에서 water vapor의 영향

  • 김훈 (서울대학교 재료공학부) ;
  • 김현미 (서울대학교 재료공학부) ;
  • 김기범 (서울대학교 재료공학부)
  • Published : 2000.11.01