Improvement of CVD-TiN diffusion barrier performance in Cu metallization by a thin Al interlayer between Cu and TiN

Cu 배선 공정에서 Al 중간층을 이용한 CVD-TiN 확산 방지막의 성능 향상

  • 김경호 (서울대학교 공과대학 재료공학부) ;
  • 김기범 (서울대학교 공과대학 재료공학부)
  • Published : 1999.05.01