한국재료학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference)

한국재료학회 (Materials Research Society of Korea)
권호 표지

유도결합형 $Cl_2/BCl_3/Ar$ 플라즈마를 이용한 sapphire wafer의 건식 식각

Inductively coupled $Cl_2/BCl_3/Ar$ plasmas etching of sapphire wafer

  • 성연준 (성균관대학교 재료공학과) ;
  • 이용혁 (성균관대학교 재료공학과) ;
  • 김현수 (영국 광전자연구소) ;
  • 염근영 (성균관대학교 재료공학과) ;
  • 이재원 (삼성종합기술원 질화물반도체팀) ;
  • 채수희 (삼성종합기술원 질화물반도체팀) ;
  • 김태일 (삼성종합기술원 질화물반도체팀)
  • 발행 : 1999.11.01
PDF 다운로드
⟨ 이전 논문 다음 논문 ⟩

초록

키워드