$O_3/HMDS$ APCVD를 이용한 후막 $SiO_2$ 성장특성연구

Growth of Thick $SiO_2$ film for Planar Waveguide using $O_3/HMDS$ APCVD

  • 최진경 (성균관대학교 재료공학과 광전재료 및 소자연구실) ;
  • 이우형 (성균관대학교 재료공학과 광전재료 및 소자연구실) ;
  • 유지범 (성균관대학교 재료공학과 광전재료 및 소자연구실)
  • 발행 : 1998.11.01