Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference (한국재료학회:학술대회논문집)

Materials Research Society of Korea (한국재료학회)
권호 표지

Mass spectrometric study on reaction mechanism of wafer cleaning process employing UV excited ${NF}_3/H_2$

자외광 여기 ${NF}_3/H_2$ 가스를 사용한 웨이퍼 세정 공정에서 질량 분석기를 사용한 반응 기구 연구

  • 권성구 (한국과학기술원 화학공학과 공정해석연구실) ;
  • 백종태 (전자통신연구소 반도체부문) ;
  • 김도현 (한국과학기술원 화학공학과 공정해석연구실)
  • Published : 1997.10.01
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Abstract

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