Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference (한국재료학회:학술대회논문집)
- 1997.10a
- /
- Pages.55-55
- /
- 1997
Mass spectrometric study on reaction mechanism of wafer cleaning process employing UV excited ${NF}_3/H_2$
자외광 여기 ${NF}_3/H_2$ 가스를 사용한 웨이퍼 세정 공정에서 질량 분석기를 사용한 반응 기구 연구
Abstract
Keywords