Si(100)의 얇은 산화막을 통한 Co$Si_{2}$형성에 관한 연구

The study of the formation of Co$Si_{2}$through the thin oxide interlayer of Si(100)

  • 신영철 (한양대학교 금속공학과 반도체재료연구실) ;
  • 전형탁 (한양대학교 금속공학과 반도체재료연구실)
  • 발행 : 1997.05.01