반도체 습식 HF 최종공정 중 실리콘 표면의 소수성이 Water Mark 생성에 미치는 영향

The Effect of the Hydrophobicity of Silicon Surface on the Formation of the Water Marks during HF-last Wet Chemical Processing

  • 김승환 (한양대학교 금속재료공학과) ;
  • 박진구 (한양대학교 금속재료공학과)
  • 발행 : 1996.05.01