Investigation of the Shallow Trench Etch Process for the Device Isolation of Deep sub-micron CMOS

Deep sub-micron CMOS의 소자고립을 위한 Shallow Trench 식각공정에 관한 연구

  • 이주훈 (성균관대학교 재료공학과) ;
  • 김현수 (성균관대학교 재료공학과) ;
  • 염근영 (성균관대학교 재료공학과)
  • Published : 1996.05.01