Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference (한국재료학회:학술대회논문집)

Materials Research Society of Korea (한국재료학회)
권호 표지

Effect of process conditions on the removal of native oxide in wafer cleaning process employing UV excited $NF_3/H_2$

UV 조사와 $NF_3/H_2$를 사용한 웨이퍼 세정공정에서 자연 산화막 제거에 대한 공정 조건의 영향

  • 권성구 (한국과학기술원 화학공학과 공정해석연구실) ;
  • 김도현 (한국과학기술원 화학공학과 공정해석연구실)
  • Published : 1996.11.01
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Abstract

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