Preparation and Characteristics of $TiO_2$ Thin Films Prepared by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition

플라즈마 화학증착법을 이용한 $TiO_2$ 박막제조 및 특성분석

  • 이인순 (전북대학교 화학공업공학과) ;
  • 한윤봉 (전북대학교 화학공업공학과) ;
  • 윤창주 (전북대학교 반도체물성연구센터)
  • Published : 1995.11.01