XPS chamber 내 in-situ 열처리에 의한 $SiO_2$/TiW system의 계면반응 연구

An XPS analysis on the interfacial reaction for $SiO_2$/TiW system after in-situ heat treatment

  • 박형호 (한국전자통신연구소 반도체연구단) ;
  • 조경익 (한국전자통신연구소 반도체연구단) ;
  • 김경수 (한국전자통신연구소 반도체연구단) ;
  • 이재성 (경북대학교 전자공학과) ;
  • 이용현 (경북대학교 전자공학과)
  • 발행 : 1994.05.01