한국재료학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference)

한국재료학회 (Materials Research Society of Korea)
권호 표지

Multi-Step 스퍼터링 PECVD에 의한 실리콘 산화막의 특성에 관한 연구

A Study on the Characteristics of Silicon Oxide Films by Multi-Step Sputteirng PECVD

  • 박민 (한국전자통신연구소 미세구조연구실) ;
  • 이중환 (한국전자통신연구소 미세구조연구실) ;
  • 이상환 (한국전자통신연구소 미세구조연구실) ;
  • 유병곤 (한국전자통신연구소 미세구조연구실) ;
  • 구진근 (한국전자통신연구소 미세구조연구실)
  • 발행 : 1994.05.01
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