원거리 플라즈마 화학증착법에 이한 저온 이산화규소박막의 증착에서 기상반응의 영향

Effect of the gas pphase reaction in the deposition of the low temperature SiO2 thin films by Remote-PECVD

  • 박영배 (포항공대 화학공학과 재료공정연구실) ;
  • 이시우 (포항공대 화학공학과 재료공정연구실) ;
  • 임인곤 (금성사 안양 연구소) ;
  • 박원규 (금성사 안양 연구소) ;
  • 김성철 (금성사 안양 연구소)
  • 발행 : 1994.02.01