Characteristics of Low Temperature $SiO_2$ by RPECVD

RPECVD에 의한 저온 규소 산화막의 특성

  • 강진규 (포항공과대학 화학공학과, 재료공정 연구실) ;
  • 김수구 (포항공과대학 화학공학과, 재료공정 연구실) ;
  • 이시우 (포항공과대학 화학공학과, 재료공정 연구실)
  • Published : 1992.05.01