Effect of sputtering parameters and targets on properties of ZnO:Al thin films prepared by reactive DC magnetron sputtering (직류 반응성 sputtering법으로 제막된 ZnO:Al 박막의 물성에 미치는 증착조건 및 타겟의 영향)
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- Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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- v.8 no.4
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- pp.592-598
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- 1998