• 제목/요약/키워드: yttrium oxyfluoride

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Yttirum Oxyfluoride 원료의 고상합성 및 서스펜션 플라즈마 스프레이 코팅 응용 (Solid-State Synthesis of Yttirum Oxyfluoride Powders and Their Application to Suspension Plasma Spray Coating)

  • 박상준;김형순;이성민
    • 한국재료학회지
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    • 제27권12호
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    • pp.710-715
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    • 2017
  • We synthesized YOF(yttirum oxyfluoride) powders through solid state reactions using $Y_2O_3$ and $YF_3$ as raw materials. The synthesis of crystalline YOF was started at $300^{\circ}C$ and completed at $500^{\circ}C$. The atmosphere during synthesis had a negligible effect on the synthesis of the YOF powder under the investigated temperature range. The particle size distribution of the YOF was nearly identical to that of the mixed $Y_2O_3$ and $YF_3$ powders. When the synthesized YOF powders were used as a raw material for the suspension plasma spray(SPS) coating, the crystalline phases of the coated layer consisted of YOF and $Y_2O_3$, indicating that oxidation or evaporation of YOF powders occurred during the coating process. Based on thermogravimetric analysis, the crystalline formation appeared to be affected by the evaporation of fluoride because of the high vapor pressure of the YOF material.

옥시불화이트륨 분말의 고상합성 및 플라즈마 스프레이 코팅 적용 (Solid-state synthesis of yttrium oxyfluoride powders and their application to plasma spray coating)

  • 이정일;김영주;채희라;김윤정;박성주;신경선;하태빈;김지현;정구훈;류정호
    • 한국결정성장학회지
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    • 제31권6호
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    • pp.276-281
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    • 2021
  • 반도체 회로를 제조하기 위해서 에칭, 세척, 증착 등의 공정들이 반복적으로 진행된다. 따라서 이러한 공정이 진행되면 진공장비 내부는 부식성이 높은 가혹한 플라즈마 환경에 노출되게 된다. 따라서 반도체 공정 장비의 내부를 플라즈마 노출에 강한 재료를 사용하여 코팅층의 에칭과 오염 입자의 생성을 최소화하여야 한다. 본 연구에서는 고상합성법에 의해 Y2O3와 YF3 분말을 원료물질로 옥시불화이트륨(YOF)를 성공적으로 합성하였다. Y2O3와 YF3 분말의 혼합비율은 1.0:1.0에서 1.0:1.6까지 조절하였으며, 혼합비율이 합성된 YOF 분말의 결정구조와 미세구조에 미치는 영향을 XRD와 FE-SEM으로 조사하였다. 합성된 YOF 분말을 이용하여 알루미늄 기판에 플라즈마 스프레이법으로 성공적으로 코팅하였다.

합성 불산화 이트륨 분말을 이용한 DLP 3D 프린팅용 광경화성 슬러리 제조 (Preparation of Photocurable Slurry for DLP 3D Printing Process using Synthesized Yttrium Oxyfluoride Powder)

  • 김은성;한규성;최정훈;김진호;김응수
    • 한국재료학회지
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    • 제31권9호
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    • pp.532-538
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    • 2021
  • In this study, a spray dryer is used to make granules of Y2O3 and YF3, and then Y5O4F7 is synthesized following heat treatment of them under Ar gas atmosphere at 600 ℃. Single and binary monomer mixtures are compared and analyzed to optimize photocurable monomer system for DLP 3D printing. The mixture of HEA and TMPTA at 8:2 ratio exhibits the highest photocuring properties and low viscosity with shear thinning behavior. The optimized photocurable monomer and synthesized Y5O4F7 are therefore mixed and applied to printing process at variable solid contents (60, 70, 80, & 85 wt.%) and light exposure times. Under optimal light exposure conditions (initial exposure time: 1.2 s, basic exposure time: 5 s), YOF composites at 60, 70 & 80 wt.% solid contents are successfully printed. As a result of measuring the size of the printed samples compared to the dimensions of the designed bar type specimen, the deviation is found to increase as the YOF solid content increases. This shows that it is necessary to maximize the photocuring activity of the monomer system and to optimize the exposure time when printing using a high-solids ceramic slurry.

플라즈마-스프레이법에 의해 코팅한 옥시불화이트륨(YOF) 증착층의 플라즈마 내식성에 미치는 불화알루미늄(AlF3) 첨가 효과 (Effect of AlF3 addition to the plasma resistance behavior of YOF coating deposited by plasma-spraying method)

  • 김영주;박제홍;유시범;정승원;김강민;유정호
    • 한국결정성장학회지
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    • 제33권4호
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    • pp.153-157
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    • 2023
  • 반도체 회로를 제조하기 위해서 에칭, 세척, 증착 등의 공정들이 반복적으로 진행된다. 따라서 이러한 공정이 진행되면 진공장비 내부는 부식성이 높은 가혹한 플라즈마 환경에 노출되게 된다. 따라서 반도체 공정 장비의 내부를 플라즈마 노출에 강한 재료를 사용하여 코팅층의 에칭과 오염 입자의 생성을 최소화하여야 한다. 본 연구에서는 고상합성법에 의해 합성된 옥시불화이트륨 (YOF)를 이용한 증착층의 플라즈마 식각 특성을 향상시키기 위하여 YOF 분말에 AlF3 분말을 혼합하여 플라즈마 스프레이 공정으로 Al 금속위에 증착시키고 그 특성을 분석하였다. AlF3 혼합비율의 증가에 따른 증착층의 결정구조, 미세구조 및 화학조성 변화를 조사하고 증착된 코팅층의 플라즈마 식각율을 측정하여 AlF3 혼합비율과의 상관관계를 분석하였다.