The Scanora/sup (R)/ X-ray unit uses the principles of narrow beam radiography and spiral tomography. Starting with a panoramic overview as a scout image. multiple tomographic projections could be selected. This study evaluated the accuracy of spiral tomography in comparison to routine panoramic radiography for dental implant treatment planning. An experimental study was performed on a cadaver mandible to assess the accuracy of panoramic radiography and spiral tomography film images for measurement of metallic spheres. After radiographic images of the metallic spheres on the surgical stent were measured and corrected for a fixed magnification of radiographic images. following results were obtained. 1. In the optimal position of the mandible. the minimal horizontal and vertical distortion was evident in the panoramic radiography images. The mean horizontal and vertical magnification error in anterior sites was 5.25% and 0.75%. respectively. The mean horizontal and vertical magnification error in posterior sites was 0.50% and 1.50%. respectively. 2. In the displaced forward or in an eccentric position of the mandible. the magnification error of the panoramic radiography images increased significantly over the optimal position. Overall, the mean horizontal magnification error of the anterior site in the different positions changed dramatically within a range of -17.25% to 39.00%, compared to the posterior range of -5.25% to 8.50%. However, the mean vertical magnification error stayed with the range of 0.5% to 3.75% for all the mandibular positions. 3. The magnification effects in the tomographic scans were nearly identical for the anterior and posterior with a range of 2.00% to 5.75% in the horizontal and 4.50% to 5.50% in the vertical dimension, respectively. 4. A statistically significant difference between the anterior and posterior measurements was found in the horizontal measurements of the panoramic radiography images of the displaced forward and backward position of the mandible(P<0.05). Also a significant difference between the optimal panoramic and tomographic projections was found only in the vertical measurement(P<0.05).
Purpose : This article is to describe a modified device for intraoral radiography which was developed to obtain reproducible radiographic images for assessment of distal osseous defects of the mandibular second molar (2 Mm) after impacted third molar (3 Mm) surgery. Materials and Methods : A commercial available alignment system for posterior region was modified by adding a reference gauge pin (millimetric) and threading a hollow acrylic cylinder at the ring of the radiographic positioner to attach the X-ray collimator. The design included customized resin acrylic stent for the occlusal surface of the 2Mm in maximum intercuspal position, individualizing the biteblock positioner. Periapical radiographs were taken before and after surgical extraction of 3 Mm, employing the radiographic technique of parallelism described by Kugelberg (1986) with this modified film holder and inserting the gauge pin on the deepest bone probing depth point. Results : This technique permitted to obtain standardized periapical radiographs with a moderate to high resolution, repeatability, and accuracy. There was no difference between the measurements on the pre- and post-operative radiographs. This technique allowed better maintenance of the same geometric position compared with conventional one. The insertion of the gauge pin provided the same reference point and localized the deepest osseous defect on the two-dimensional radiographs. Conclusion : This technique allowed better reproducibility in posterior radiographic records (distal surface of 2 Mm) and more accurate measurements of radiographic bone level by the use of a millimetric pin.
유리 기판위에 dc magnetron sputtering 방법으로 제작한Fe(50 $\AA$)/[Co(17 $\AA$)/Cu(24 $\AA$)]20 다층박막에 관하여 자기저항비의 기저층, 자성층, 비자성층의 증착률 및 열처리 의존성을 살펴보았다. 낮은 base 압력 중에서의 막의 증착은 Co/Cu 계면의 산화를 억제하여 자기저항비를 장가시켰다. 극대 자기저항비를 얻기위해 요구되는 증착률은 Fe는 1$\AA$)/s 이상, Cu는 2.8 $\AA$)/s 이었으며 Co는 증착률이 2 $\AA$/s 보다 높은 경우에 평탄한 자구형성을 이루어 자기적 향비가 높아지는 경향을 보였다. 40$0^{\circ}C$까지의 시료에 대한 역처리는 다층박막의 주기성을 유지한채 더 큰 결정립을 형성시켜 반강자성적으로 결합한 막의 부분이 증가함으로써 자기저항비를 증가시켰다.
식도천공은 임상에서 특히 이비인후과영역에서 드물게 보는 질환으로서 여러 가지 중요한 합병증을 야기하는데 그것은 식도 주위에 대한 해부학적 관계가 원인이 되는 것으로서 긴급을 요하며 사망율도 높다. 식도천공의 원인은 대부분 외부손상, 기계적 손상, 부식성 식도염 및 협착 등이 있는데 이물섭취에 의한 경우도 많다. 이물섭취로는 주로 동전, 생선뼈, 닭뼈 및 의치 등이 식도 벽에 걸려서 천공을 일으키게 되는데 이 천공은 이물 자체가 일으킬 수도 있지만 때로는 이 이물을 제거하기 위해 내시경조작을 할 때에 발생할 수도 있다. 최근 저자는 이물을 오연한 뒤 연하곤란이나 호흡곤란 없이 식도의 경한 동통, 이물감 및 미열을 주소로 내원하여 X선 검사결과 식도이물 및 식도주위에 조영제 유출이 인지 되어 응급으로 전신마취하에 식도이물제거술과 경부종격동절개술을 시행하였으며 술후 7일째 식도조영술 결과 좋은 효과를 경험하였기에 보고하는 바이다.
통계적 방법을 사용하여 스퍼터 증착한 Ta 박막의 증착속도, 비저항, 면저항 균일도, 반사도, 응력 등의 물성을 측정하고 분석하였다. RS/1의 표면 반응 분석법에 의해 독립변수와 종속변수간의 함수관계를 예측하였으며. 이때 비저항과 면저항의 균일도 측면에서 최적조건은 증착 압력 2 mTorr, 증착 전력 8 W/$\textrm{cm}^2$ 및 기판온도 $20^{\circ}C$였다. 실험 모텔의 신뢰성 (fitness)은 풀링(pooling)하지 않은 경우 0.85 ~0.9의 값을 얻었다. 본 조건하에서 증착된 박막은 비저항 180$\mu$$\Omega$cm와 면저항 균일도 ~ 2%의 값을 가졌다. 투과전자 현미경과 X선 회절법을 이용하여 분석한 결과 증착된 박막은 100~200 정도의 결정립 크기를 갖는 $\beta$-Ta 임을 확인하였다.
Transparent conducting films having a hybrid structure of GZO/Metal/GZO were prepared on glass substrates by sequential deposition using DC magnetron sputtering. Silver, copper, aluminum and zinc thin films were used as the intermediate metal layers in the hybrid structure. The electrical and optical properties of hybrid transparent conducting films were investigated with varying the thickness of metal layer or GZO layers. With increasing the metal thickness, hybrid films showed a noticeable improvement of the electrical conductivity, which is mainly dependent on the electrical property of the metal layer. GZO(40 nm)/Ag(10 nm)/GZO(40 nm) film exhibits a resistivity of $5.2{\times}10^{-5}{\Omega}{\cdot}cm$ with an optical transmittance of 82.8%. For the films with Zn interlayer, only marginal reduction in the resistivity was observed. Furthermore, unlike other metals, hybrid films with Zn interlayer showed a decrease in the resistivity with increasing the GZO thickness. The optimal thickness of GZO layer for anti-reflection effect at a given thickness of metal (10 nm) was found to be critically dependent on the refractive index of the metal. In addition, x-ray diffraction analysis showed that the insertion of Ag layer resulted in the improvement of crystallinity of GZO films, which is beneficial for the electrical and optical properties of hybrid-type transparent conducting films.
$Ge_{2}Sb_{2}Te_5$(GST) thin film at present is a promising candidate for a phase change random access memory (PCRAM) based on the difference in resistivity between the crystalline and amorphous phase. PCRAM is an easy to manufacture, low cost storage technology with a high storage density. Therefore today several major chip in manufacturers are investigating this data storage technique. Recently, A. Pirovano et al. showed that PCRAM can be safely scaled down to the 65 nm technology node. G. T Jeonget al. suggested that physical limit of PRAM scaling will be around 10 nm node. Etching process of GST thin ra films below 100 nm range becomes more challenging. However, not much information is available in this area. In this work, we report on a parametric study of ICP etching of GST thin films in $Cl_2$/Ar chemistry. The etching characteristics of $Ge_{2}Sb_{2}Te_5$ thin films were investigated using an inductively coupled plasma (ICP) of $Cl_2$/Ar gas mixture. The etch rate of the GST films increased with increasing $Cl_2$ flow rate, source and bias powers, and pressure. The selectivity of GST over the $SiO_2$ films was higher than 10:1. X-ray photoelectron spectroscopy(XPS) was performed to examine the chemical species present in the etched surface of GST thin films. XPS results showed that the etch rate-determining element among the Ge, Sb, and Te was Te in the $Cl_2$/Ar plasma.
In this work, in order to effectively improve the electrical conductivity and visible light transmittance of ZnO thin films, ZnO single layer and ZnO/Ag bi-layer films were deposited on glass substrates by radio frequency and direct current magnetron sputtering, and then, the effects of an Ag buffer layer and electron beam irradiation on the electrical and optical properties of the films were investigated. The observed results indicate that ZnO 100 nm / Ag 7 nm films show higher opto-electrical performance than the ZnO single layer film. In addition, electron beam irradiation also effectively enhanced the visible transmittance and electrical conductivity of the ZnO/Ag bi-layer films.
Screen printing of commercially available Ag paste is the most widely used method for the front side metallization of Si solar cells. However, the metallization using Ag paste is expensive and needs high temperature annealing for reliable contact. Among many metallization schemes, Ni/Cu/Sn plating is one of the most promising methods due to low contact resistance and mass production, resulting in high efficiency and low production cost. Ni layer serves as a barrier which would prevent copper atoms from diffusion into the silicon substrate. However, Ni based schemes by electroless deposition usually have low thermal stability, and require high annealing process due to phosphorus content in the Ni based films. These problems can be resolved by adding W element in Ni-based film. In this study, Ni-W-P alloys were formed by electroless plating and properties of it such as sheet resistance, resistivity, specific contact resistivity, crystallinity, and morphology were investigated before and after annealing process by means of transmission line method (TLM), 4-point probe, X-ray diffraction (XRD), and Scanning Electron Microscopy (SEM).
This paper reports on the deposition conditions and properties of ITO films used as electrode layer in a organic light emitting diodes on a PET substrate. The deposition technique employed was specially designed roll-to-roll sputtering. The oxide was deposited at room temperature in an argon and oxygen plasma on a transparent conducting ITO layer on a PET film. The influence of deposition parameters such as DC power, working pressure and oxygen partial pressure has been investigated, in order to obtain the best compromise between a high deposition rate and adequate electro-optical properties. Electrical and optical properties of ITO films were analyzed by Hall measurement examinations with van der pauw geometry at room temperature and UV/Vis spectrometer analysis, respectively. In addition, the structural properties and surface smoothness were measured by x-ray diffraction and scaning electron microscopy, respectively. From optimized ITO films grown by roll-to-roll sputter system, good electrical$(6.44{\times}10^{-4}\;{\Omega}-cm)$ and optical(above 86 % at 550 nm) properties were obtained. Also, the ITO films exhibited amorphous structure and very flat surface beacause of low deposition temperature.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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