• 제목/요약/키워드: waste stripper solution

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특허(特許)로 본 스트리핑 공정(工程) 재활용(再活用) 기술(技術) 동향(動向) (Trend on the Recycling Technologies for the waste stripper solution by the Patent Analysis)

  • 박명준;이호경;구기갑;강경석;한혜정
    • 자원리싸이클링
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    • 제18권1호
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    • pp.58-67
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    • 2009
  • 국내 포토레지스트 스트리퍼의 연간 소요량은 약 1000억원 규모(50, 000톤)로 대부분 전량 수입에 의존하고 있으나, 폐스트리퍼에는 각종 불순물이 함유되어 있어, 소각 또는 낮은 수준으로 재활용되어 오는데 그치고 있다. 최근 경제적 측면과 효율성 측면에서 스트리퍼 폐액의 재활용 기술이 폭넓게 연구되고 있다. 본 논문에서는 스트리퍼 폐액의 재활용에 관한 특허 기술을 분석하였다. 분석범위는 2007 9월까지 미국, 유럽연합, 일본과 한국에서 출원 및 공개된 특허로 제한하였다. 특허들은 전체적으로 검색어를 사용하여 수집되었고, 기준 기술 이외의 것을 여과하였다. 특허기술의 경향은 년도와 국가별, 기업 및 관련기술 분야별로 분석되었다.

LCD 제조공정에서의 폐용매 분리처리를 위한 공정 설계 (Design of Waste Solvent Treatment Process from LCD Manufacturing Process)

  • 윤문규;이문용
    • 청정기술
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    • 제14권4호
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    • pp.275-280
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    • 2008
  • 연구에서는 LCD 제조 공정에서 배출되는 스트리퍼와 디벨로퍼 혼합 폐액(SD폐액)과 스트리퍼 폐수의 효과적 분리 및 처리를 위한 가능한 기술로서 추출공정과 증류공정의 기술적/경제적 타당성을 검토하였다. SD폐액과 스트리퍼 폐수의 추출분리를 위한 용매로 $CHCl_3$가 여러 가지 관점에서 가장 적절한 용매로 확인되었다. 또한 SD폐액 분리 회수를 위한 공정으로서 추출공정과 증류공정의 두 가지 공정에 대하여 정밀 전산모사를 수행한 결과 $CHCl_3$를 이용한 추출분리공정이 단순증류공정보다 6배 정도 에너지 소요비용이 적게 소요됨을 확인할 수 있었다.

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포토레지스트 스트리퍼 폐액으로부터 고순도 유기용제 회수 (Reclamation of High Purity Organic Solvents from Waste Photoresist Stripper)

  • 김대진;오한상;김재경;박명준;이문용;구기갑
    • 청정기술
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    • 제13권4호
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    • pp.257-265
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    • 2007
  • 반도체 공정에서 배출되는 폐 포토레지스트 스트리퍼(photoresist stripper)의 주성분인 NMP (N-methy-pyrrolodione)와 BDG (Butyldiglyrcol)를 회수하여 재활용할 목적으로 나선형 스핀밴드시스템(spinning band stem)이 장착되어 있는 진공증류장치를 이용하여 실험실적 규모의 증류실험을 수행하였다. 정제된 NMP와 BDG의 순도는 포토레지스트 스트리퍼용 용제 기준 물성치인 순도 99.5% 이상이었고, 수분 1000 ppm 이하, 색도(APHA) 50 이하, 나트륨 성분을 제외한 대부분의 금속성분은 1 ppb 이하로 반도체용 스트리퍼 용액 제조에 재활용할 수 있는 수준임을 확인하였다. NMP와 BDG의 회수을은 PR스트리퍼 폐액 A 타입의 경우 NMP 96%, BDG 53%, B 타입의 경우 NMP 93%, BDG 57%이었다.

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옥살레이트 침전법에 의한 폐솔더 박리액에서 주석 및 구리의 회수 (Recovery of Tin and Copper from Waste Solder Stripper by Oxalate Precipitation)

  • 류승형;안재우;안효진;김태영
    • 자원리싸이클링
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    • 제23권3호
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    • pp.37-43
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    • 2014
  • 폐솔더 박리액으로부터 옥살산 침전법을 이용하여 주석 및 구리의 분리 침전을 통해 각각 금속염으로 회수하기 위한 기초 연구를 실시하였다. 먼저 옥살산의 첨가에 따라 주석의 침전 제거율이 증가하였으며 당량비(옥살산/주석)의 1.0-1.5배를 첨가할 경우 주석이 99.5%의 이상 제거율을 나타내었다. 이 경우에 구리는 2.0% 정도 침전되었고 철, 납등은 침전되지 않아 주석만 선택적으로 침전되는 것을 확인 하였다. 반응온도 증가에 따라 주석의 침전율은 증가하여 $60^{\circ}C$ 부근에서 최대값을 보이다가 온도가 더 증가하면 오히려 감소 경향을 보였다. 침전물을 여과 건조시켜 $SnO_2$의 산화물을 얻을 수 있었다. 주석이 제거된 폐솔더 박리액에 옥살산을 첨가하여 구리를 납, 철 등의 금속이 선택적으로 약 91% 이상 침전되어 회수가 가능하였다.

특허(特許)와 논문(論文)으로 본 스트리핑 공정폐액(工程廢液) 재활용(再活用) 기술(技術) 동향(動向) (Technical Trend on the Recycling Technologies for Stripping Process Waste Solution by the Patent and Paper Analysis)

  • 이호경;이인규;박명준;구기갑;조영주;조봉규
    • 자원리싸이클링
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    • 제22권4호
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    • pp.81-90
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    • 2013
  • 1990년대 이후 정보통신산업의 급속한 발전으로 반도체 및 LCD의 수요가 지속적으로 증가하고 있다. 이에 따라 미세회로 패턴형성에 핵심이 되는 감광제와 이의 희석 제거에 사용되는 고가의 시너, 박리액의 수요가 급격히 증가하고 있어, 폐시너, 폐박리액에 대한 재활용 필요성이 대두되고 있는 실정이다. 최근 경제적인 측면과 환경적인 측면, 효율성에 관한 측면에서 스트리핑 공정폐액의 재활용 기술이 폭넓게 연구되고 있다. 본 연구에서는 스트리핑 공정폐액의 재활용 기술에 대한 특허와 논문을 분석하였다. 분석범위는 1981년~2010년까지의 미국, 유럽연합, 일본, 한국의 등록/공개된 특허와 SCI 논문으로 제한하였다. 특허와 논문은 키워드를 사용하여 수집하였고, 기술의 정의에 의해 필터링 하였다. 특허와 논문의 동향은 연도, 국가, 기업, 기술에 따라 분석하여 나타내 보았다.

폐솔더 박리액으로부터 확산투석법에 의한 질산의 회수 (Recovery of Nitric Acid from Waste Solder Stripper by Diffusion Dialysis)

  • 류승형;김태영;안낙균;강명식;안재우;안종관
    • 자원리싸이클링
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    • 제24권5호
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    • pp.33-39
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    • 2015
  • 음이온 교환막을 이용한 확산투석에 의해 폐솔더 박리액으로부터 질산을 효율적으로 회수하기 위한 기초 연구를 실시하였다. 우선 모의용액 실험의 경우 유속, 유속비, 질산농도, 금속이온 종류 및 농도 등이 질산 회수율에 미치는 영향을 조사하였다. 유속이 증가함에 따라 질산 회수율은 감소하였고 급액에 대한 순수의 유속비(W/F)가 증가할수록 질산 회수율은 증가하여 유속비가 1.5이상에서 약 99%의 질산 회수율을 보였다. 급액중 질산용액의 농도가 증가함에 따라 3.0 M 까지는 산회수율이 증가 하였으나 3.0 M 이후로는 회수율은 점차 낮아 졌다. 확산투석막을 통과하는 금속이온의 투과율은 Pb, Na, Cu순 이었고, Fe과 Sn은 투과되지 않았다. 실제 폐솔더액을 사용하여 유속 $0.9L/hr-m^2$, W/F = 1.3 으로 확산 투석을 실시한 결과 약 94%의 질산 회수율을 얻을 수 있었다.