• 한국주조공학회지
• /
• 제24권3호
• /
• pp.153-158
• /
• 2004

본 연구에서는 기존 고압주조법의 해결과제인 고속충진 시 혼입되는 금형 cavity 내부의 유해 gas에 의한 gas porosity를 제어하기 위한 고속 사출 전 진공시스템 설계와 응고과정에서 발생되는 응고수축에 의한 shrinkage를 효과적으로 제어하기 위한 국부가압 스퀴즈의 조합시스템의 설계로 최적의 기계적 성질을 갖는 부품을 제조할 수 있는 공법을 개발하였다. 또한 개발된 신공법으로 자동차용 고내마모성 요구부품인 Reaction Shaft Support에 기존의 주철제를 대체하는 Al-15wt.%Si 과공정합금을 적용하여 시제품을 제조하였으며, 기존의 공법과 비교한 결과, 내부 porosity가 없는 미세하고 균일한 공정 및 초정 Si의 미세조직을 얻을 수 있었고, 기계적 특성평가에서도 매우 우수한 결과를 얻을 수 있었다.

• Journal of Korean Vacuum Science & Technology
• /
• 제3권1호
• /
• pp.24-29
• /
• 1999

The characteristic behaviors of CH3Br were examined first for the dry etching of polysilicon in a Cl2/CH3Br/O2 plasma. CH3Br is revealed one of the excellent additive gases to control anisotropy of etching profile and to give no undercutting for various typed of polysilicons. CH3Br acts as a passivation precursor on the side wall in etch cavity by forming polymer-like films such as CHxBry(x+y=1,2). The decrease of etch selectivity due to the reaction if the C-containing species from CH3Br with the surface O atoms of SiO2 was overcome by the addition of O2 into plasma, resulting that the selectivity increased by 2~3 times. According to the results of optical emission signals, CH3Br should be dissociated into several fragments to give more hydrogen atoms than bromine atoms in our helical resonator system.

• 한국진공학회지
• /
• 제1권1호
• /
• pp.32-36
• /
• 1992

ECR 플라즈마 장치를 설계 제작하였다. ECR 플라즈마의 흐름을 얻기 위해 자기장 의 기울기를 조작할 수 있는 전자석계가 필요하였다. 요크를 사용하면 같은 전류로 자기장 을 1.5배 더 크게 할 수 있었다. 이 장치로 만든 ECR 플라즈마의 특성을 조사하기 위하여, 랑뮈르 탐침을 이용하여 챔버의 축방향을 따라 위치에 따른 전자온도 Te와 전자밀도 Ne의 공간분포를 실험적으로 구하였다.

• 한국진공학회:학술대회논문집
• /
• 한국진공학회 2011년도 제40회 동계학술대회 초록집
• /
• pp.202-202
• /
• 2011

Diagnostics of plasma density is a key factor for monitoring plasma processing. Various probes are invented to measure plasma density and cut-off probe is a one of the most promising diagnostics tool for measuring plasma density. However, at the low density or high pressure the cut-off probe cannot clearly resolve the cut-off peak. Several reasons make this problem: Cut-off likes peaks caused by cavity resonances and weaken transmission spectrum signal at high pressure. Recently, You et al., have researched mechanism of cut-off probe and we improve the cut-off reliability and sensitivity base on that research. Modified cut-off antenna is adapted and bias cut-off probe method is tried. These experiment results have good agreement with the previous study and show good measurement characteristics.

• 한국금형공학회:학술대회논문집
• /
• 한국금형공학회 2008년도 하계 학술대회
• /
• pp.69-73
• /
• 2008

본 연구에서는 고분자 플라스틱 부품의 친환경 외장성형공법인 Insert Film 사출성형공법중 첫 번째 공정인 진공성형공정에서 진공금형의 표면온도 균일화 기술에 대해 연구를 수행하였다. 진공금형의 온도분포 균일화를 위한 금형설계 및 설계된 금형에 대한 온도분포 평가를 위한 ANSYS를 이용한 유한요소열해석을 수행하였으며, 이때 정상상태 및 과도상태를 함께 평가하였다. 설계 결과를 바탕으로 금형을 제작하였으며, 생산성을 고려하여 4캐비티로 제작된 금형에 대해 금형표면의 온도분포 평가실험을 수행하였다. 또한 금형내 캐비티 온도센서 및 제어시스템을 설치하여 진공금형표면 온도분포가 항상 일정하게 유지될 수 있도록 금형시스템을 개발하였다. 결과적으로 일정한 온도범위의 금형표면온도제어가 가능하였다.

• 한국진공학회:학술대회논문집
• /
• 한국진공학회 2013년도 제44회 동계 정기학술대회 초록집
• /
• pp.515-515
• /
• 2013

RF는 사이클로트론에서 빔을 원하는 에너지로 가속하기위해 쓰인다. MC50 사이클로트론에는 두 개의 DEE가 있고 각각 독립된 LLRF모듈과 증폭기를 통해 제어된다. 주요 제어변수는 DEE1,2의 Voltage와 양단간의 Phase인데 이는 RF Generator에서 특정 주파수로 발생된 RF 시그널의 Amplitude와 Phase를 RF Modulator에서 변조하므로 제어되어진다. 지금 현재의 Modulator는 오래되어 DEE Voltage의 컨트롤이 잘 이루어지지 않고 있고 가끔 연결부위에서 문제를 보여 새 Modulator를 제작하게 되었다. 기존의 LLRF는 아날로그 방식인데 아날로그 방식은 외부제어가 어렵고 확장이 쉽지 않아 디지털 제어방식으로 설계하였다. 새 LLRF는 저속처리부와 고속처리부로 두 부분으로 구성하였다. Final amplifier와 cavity의 상태를 체크하는 저속처리부는 PLC로 RF 시그널의 Amplitude와 Phase를 제어하는 고속처리부는 FPGA로 제어할 계획이다.

• 한국진공학회:학술대회논문집
• /
• 한국진공학회 2009년도 제38회 동계학술대회 초록집
• /
• pp.411-411
• /
• 2010

Cavity mode Whistler wave를 사용하는 자화유도결합플라즈마 (Magnetized Inductively Coupled Plasma, MICP)의 제반 특성을 비등방성 수송계수를 가지는 Drift-Diffusion 근사, 에너지 보존 방정식 및 유도전자계를 self-consistent 하게 고려하여 계산하였다. 이러한 접근법은 비충돌성 전자가열현상을 고려하지 못하는 단점에도 불구하고, 반도체 장비설계에 필수적인 전자온도, 밀도, 플라즈마 전위, 시스템의 임피던스 특성에 대한 경향성 파악에 매우 유용하다. 뿐만 아니라 전자밀도분포가 공간내에 형성되는 R-wave mode에 미치는 영향을 분석할 수 있다. 직경 320 mm를 가지는 작은 반응기에서 시뮬레이션과 실험결과를 비교하여 본 모델링 방법의 타당성을 검증한 후, 450 mm wafer가공에 적합한 대면적 플라즈마 반응기에서 플라즈마 특성을 연구하였다. 수 mTorr의 공정압력에서 약 10 Gauss전후의 약한 자장이 인가됨으로서 반경방향의 전자밀도 균일성이 대폭 향상되었다. 플라즈마 및 안테나의 대면적화에 수반되는 높은 Q값이 자장의 인가로 큰 폭으로 감소함으로서 임피던스메칭의 안정성이 비약적으로 개선되었고 전력전달 효율 또한 크게 증가함을 알 수 있었다. 본 연구 결과는 차세대 450 mm 반도체 공정장비의 개발에 있어 자화유도결합플라즈마가 매우 유용하게 사용될 수 있음을 보여준다.

• Bulletin of the Korean Chemical Society
• /
• 제10권3호
• /
• pp.234-238
• /
• 1989

The crystal structure of partially $Ag^+$-exchanged zeolite A, $Ag_{3.2}Na_{8.8}$-A, vacuum dehydrated at $360^{\circ}C$ and then exposed to 0.1 torr of cesium vapor for 12 hours at $250^{\circ}C$ has been determined by single-crystal X-ray diffraction techniques in the cubic space group Pm3m (a = 12.262(2)${\AA})\;at\;21(1)^{\circ}C$. The structure was refined to the final error indexes $R_1=0.068\;and\;R_2=0.072$ by using 338 reflections for which $I_o\;>\;3{\sigma}(I_o)$ and the composition of unit cell is $Ag_{3.2}Cs_{8.8}-A.\;3\;Cs^+$ ions lie on the centers of the 8-rings at sites of D4h symmetry. Two crystallographycally different 6-ring $Cs^+$ ions were found: 1.5 $Cs^+$ ions at Cs(2) are located inside of sodalite cavity and 4.3 $Cs^+$ ions at Cs(3) are located in the large cavity. The fractional occupancies observed at Cs(2) and Cs(3) indicate that the existence of at least three types of unit cells with regard to the 6-ring $Cs^+$ ions. For example, 50% of unit cells may have two $Cs^+$ ions at Cs(2) and 4 $Cs^+$ ions at Cs(3). 30% of unit cells may have one Cs+ ion at Cs(2) and 5 $Cs^+$ ions at Cs(3). The remaining 20% would have one $Cs^+$ ion at Cs(2) and 4 $Cs^+$ ions at Cs(3). On threefold axes of the unit cell two non-equivalent Ag atom positions are found in the large cavity, each containing 0.64 and 1.92 Ag atoms, respectively. A crystallographic analysis may be interpreted to indicate that 0.64 $(Ag_5)^+$ clusters are present in each large cavity. This cluster may be viewed as a tetrasilver molecule $(Ag_4)^0$(bond length, 2.84${\AA}$) stabilized by the coordination of one $Ag^+$ ion.

• 한국진공학회:학술대회논문집
• /
• 한국진공학회 2011년도 제40회 동계학술대회 초록집
• /
• pp.200-200
• /
• 2011

Although the cut-off probe, a precise measurement method for the electron density, is widely used in the industry, the physics on the wave spectrum of the cut-off is not understood yet, only cut-off point frequency containing the information of electron density has been analyzed well. This paper analyzes the microwave frequency spectrum of the cut-off probe to see the physics behind using both microwave field simulation (CST Microwave Studio) and simplified circuit simulation. The result shows that the circuit model well reproduces the cut-off wave spectrum especially in the low frequency regime where the wavelength of the driving frequency is larger than the characteristic length and reveals the physics of transmission characteristics with frequency as resonances between vacuum, plasma and sheath. Furthermore, by controlling the time domain in solver of the microwave simulator, the cut-off like transmission peaks above the cut-off frequency which has been believed as cavity effect is verified as chamber geometry effect. The result of this paper can be used as the basis for the improvement of cut-off probe.

• 한국진공학회지
• /
• 제15권6호
• /
• pp.547-555
• /
• 2006

포항가속기연구소가 1994년에 완공한 제3세대 방사광가속기는 방사광을 만들어내어 실험에 이용하는 시설로써 전자를 2.5 GeV까지 가속시키는 선형가속기와 이 전자를 저장하여 회전시키면서 방사광을 발생시키는 원주 280 m의 저장링으로 되어 있다. 현재 저장링에 27개의 빔라인 시설이 설치되어 실험을 수행 중에 있다. 또한 포항가속기연구소는 차세대 방사광 발생장치인 제4세대 방사광가속기 건설 계획을 추진 중에 있다. 이 논문에서는 현재 가동 중인 방사광가속기의 현황과 4세대 가속기의 건설 추진 현황에 대해 설명하고자 한다.