When stamping ultra-high-strength steel (UHSS), the phenomenon of galling, which corresponds to a transfer of material from the sheet to the tool surface, occurs because of the high contact pressure between tool and workpiece. Galling leads to increased friction, unstable interface conditions, scratches on the sheet and the tool surfaces and, eventually, premature tool surface failures. Therefore, a simple and accurate evaluation method for tool scratching is necessary for the selection of tool material and coating, as well as for a better optimization of process conditions such as blank holder force and die radius. In this study, the pin-on-disc (PODT) and pin-on-flat surface (POFST) tests are conducted to quantitatively evaluate scratch-related tool life for stamping of UHSS. The variation of the friction coefficient is used as an indicator of scratch resulted from galling. The U-channel ironing test (UCIT) is performed in order to validate the results of the friction tests. This study shows that the POFST test provides a good quantitative estimation of tool life based on the occurrence of scratch.
We propose nano-scale Cu direct bonding technology using ultra-high density Cu nano-pillar (CNP) with for high stacking yield exascale 2.5D/3D integration. We clarified the joining mechanism of nano-scale Cu direct bonding using CNP. Nano-scale Cu pillar easily bond with Cu electrode by re-crystallization of CNP due to the solid phase diffusion and by morphology change of CNP to minimize interfacial energy at relatively lower temperature and pressure compared to conventional micro-scale Cu direct bonding. We confirmed for the first time that 4.3 million electrodes per die are successfully connected in series with the joining yield of 100%. The joining resistance of CNP bundle with $80{\mu}m$ height is around 30 m for each pair of $10{\mu}m$ dia. electrode. Capacitance value of CNP bundle with $3{\mu}m$ length and $80{\mu}m$ height is around 0.6fF. Eye-diagram pattern shows no degradation even at 10Gbps data rate after the lamination of anisotropic conductive film.
Sliding friction between a spherical pin of 8mm in diameter and flat (disk) substrates coated with vacuum-deposited thin film was measured under ultra high vacuum pressure for various materials, various rates of film supply (8~210 nm/min), various sliding velocities (1.5~67.0 mm/s). It was found that the most effective lubrication was obtained when the adhesion between $Si_3N_4$ pin and SUS440C disk was high and that between $Si_3N_4$ pin and $Si_3N_4$ disk was low. When In film was used as a lubricant between $Si_3N_4$ pin and stainless steel disk, the friction coefficient had a value as low as 0.04. In this case, the normal load W and the sliding speed V were expressed as 10N and 24 mm/s for $10^{-6}Pa$. The dependence of $\mu$ on the thickness h of the Ag film, which was used as a lubricant between $Si_3N_4$ pin and SUS440C (Q) disk was expressed as $\mu$=0.12 for W=10N and V=24mm/s when the film was thicker than 100nm. A brief discussion on these relations is presented from the viewpoint of the real contact area.
SiC buffer layers were grown on Si(100) substrates by ultra-high-vacuum electron cryclotron resonance plasma (UHV ECR plasma) from $CH_4/H_2$ mixture at 700$^{\circ}C$. The electron densities and temperature were measured by single probe. The axial plasma potentials measured by emissive probe had the double layer structure at positive substrate bias. Piranha cleaning was carried out as ex-situ wet cleaning. Clean and smooth silicon surface were prepared by in-situ hydrogen plasma cleaning at 540$^{\circ}C$. A short exposure to hydrogen plasma transforms the Si surface from 1$\times$1 to 2$\times$1 reconstruction. It was monitored by reflection high energy electron diffraction (RHEED). The defect densities were analysed by the dilute Schimmel etching. The results showed that the substrate bias is important factor in hydrogen plasma cleaning. The low base pressure ($5\times10^{-10}$ torr) restrains the $SiO_2$ growth on silicon surface. The grown layers showed different characteristics at various substrate bias. RHEED and K-ray Photoelectron spectroscopy study showed that grown layer was SiC.
Kim, Youngjun;Jung, Hyojin;Jin, Hyungki;Chun, Sungwoo;Park, Wanjun
한국진공학회:학술대회논문집
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한국진공학회 2014년도 제46회 동계 정기학술대회 초록집
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pp.228.2-228.2
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2014
Characteristics of high Fermi velocity, high mechanical strength, and transparency offer tremendous advantages for using graphene as a promising transparent conducting material [1] in electronic devices. Although graphene is a prospective candidate for touch sensor with strong mechanical properties [2] and flexibility, only few investigations have been carried out in the field of sensor as a device form. In this study, we suggest ultra-highly sensitive and transparent graphene touch sensor fabricated by single layer graphenes. One of the graphene layers is formed in the top panel as a disconnected graphene beam transferred on PDMS, and the other of the graphene layer is formed with line-patterning on the bottom panel of triple structure PET/PI/SiO2. The touch sensor shows characteristics of flexible. Its transmittance is approximately 75% where transmittance of the top panel and the bottom panel are 86.3% and 87%, respectively, at 550 nm wavelength. Sheet resistance of each graphene layer is estimated as low as $971{\Omega}/sq$. The results show that the conductance change rate (${\Delta}C/C0$) is $8{\times}105$ which depicts ultra-high sensitivity. Moreover, reliability characteristic confirms consistent behavior up to a 100-cycle test.
Recently, the special alloy, for instance, such as Monel and Inconel, is used for valves, bolt/nuts, and fittings in semiconductor facility, FCEV(fuel cell electric vehicle) and hydrogen gas station, to reduce the hydrogen embrittlement. Even though the Monel material has high cost, it is recommended to use for the cases of ultra high pressure, ultra high leak-proof and so on. The purpose of this study is to investigate the characteristics of Monel material within elastic limit through the comparative analysis when Monel material is extruded or drawn. As the results, the deformation of Monel material was increased as the number of pass was increased, further, the deformation of Monel material by drawing was larger than that by extrusion. In the safety factor, the case that load is less than 420kN, the plastic deformation due to drawing could be happened faster than that due to extrusion. However, the case of more than 420kN, it showed that the plastic deformation for extrusion and drawing was almost similar.
Ultra-fine hydroxyapatite powders were synthesized by the hydrothermal reaction of Ca(OH)2 suspension or Ca(NO3)2$.$4H2O solution with (NH4)2HPO4 solution, and the powders were characterized for each synthetic condition. Crystalline hydroxyapatite powders have average grain size of less than 50 nm. By increasing the reaction pressure, the crystallinity was improved, and the crystals were preferentially growing along c-axis. When Ca(NO3)2$.$4H2O of high solubility was used, hydroxyapatite of single phase was produced. However when Ca(OH)2 of low solubility was used more than 0.334 mol/ι, unreacted Ca(OH)2 remained. Diffraction spot patterns of transmission electron microscope show that powders synthesized by the hydrothermal reaction were composed of single crystals of hexagonal phase.
In the last 10 years, membrane science and technology in Korea have grown fast in terms of basic research and process applications. Even the first large commercial membrane plant in Korea was an ion-exchange membrane process built in 1975 for the production of table salt with an annual capacity of 150,000 tons of salt, membrane processes could not draw general interests from industry not until 1987 when a reverse osmosis plant for the production of process water with a capacity of 10,000 m$^3$/day was built by Kugdong Petroleum Co. Today, the production of water by RO over the capacity of 140,000 m$^3$/day is in operation or under construction in Korea. Consumption of ultra pure water increases sharply in recent years mainly due to the rapid expansion of semiconductor industry and the introduction of ultra high pressure boilers for power plants.
We study the structures and dynamics of flows generated by ultra-relativistic jets on kpc scales through three-dimensional relativistic hydrodynamics (RHD) simulations. We employ a newly developed RHD code, equipped with the WENO-Z reconstruction, the SSPRK time discretization, and an equation of state that closely approximates the single-component perfect gas in relativistic regime. Exploring a set of models with various parameters, we confirm that the well-known Fanaroff-Riley dichotomy is primarily determined by the jet power, whereas the morphology of simulated jets also depends on the secondary parameters such as the momentum injection rate and the ratio of the jet to background pressure. Utilizing high resolution capabilities of the newly developed code, we examine in detail the dynamical properties of complex flows in different parts of jet-produced structures, and present the statistics of nonlinear dynamics such as shock, shear, and turbulence.
A very abnormal vibration was occurred at the LP(low pressure) turbine continuously during the pre-operation for a 550MW class USC(ultra super critical) steam turbine. This vibration was initiated at the rotating speed of about 3,450rpm and then the vibration amplitude was highly increased the number by $2{\sim}3$ times with the increase of the rotating speed to the rated speed(3,600rpm). In this paper, this abnormal vibration named spike vibration. This spike vibration was caused by the rubbing between the rotating bucket tip seal and the Lower Half of spill strip. Also, this paper presents the mechanism of the spike vibration and the proper method to eliminate this abnormal vibration problem. This result would be good practice to find the solution of similar high vibration in the USC steam turbines for power plant as well as industrial rotating machineries.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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