The electrical properties of Al/TiN/Ti contact are investigated at submicron contacts. The contact resistance and contact leakage current are dependent on metallization, surface dopant concentration, semiconductor surface treatment and contact plug ion implantation. In this paper, the contact resistance and contact leakage current are studied according to surface dopant concentration, semiconductor surface treatment and contact plug ion implantation at 0.8 micron contact. The contact resistance and contact leakage current increases with increasing substrate ion concentration. HF cleaning represents high contact resistance but low contact leakage current while CDE cleaning represents low contact resistance but high contact leakage current. Contact plug ion implantation decreases contact resistance but increases contact leakage current. Specially, RTA represents good electrical properties.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2008.06a
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pp.455-456
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2008
In this study, we report that an electrical properties of OLEDs was investigated by the surface etching method of ITO Layer. The electrical properties of OLEDs was measured by IVL and optical properties by EL spectrum. The fundamental structure of OLEDs was ITO anode/TPD(400$\breve{A}$)/$Alq_3(600\breve{A})$/LiF(5$\breve{A}$)/Al(1200$\breve{A}$) cathode. The threshold voltage was low value according to the low resistance of surface. The luminance was increased by decreased surface resistance.
Y.S., Chae;H.M., Kim;Y.S., Yoon;T.W., Kim;J.H., Kim;S.H., Lee
Progress in Superconductivity and Cryogenics
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v.24
no.4
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pp.40-45
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2022
The electrical/thermal stabilities and magnetic field controllability of a no-insulation (NI) high-temperature superconducting magnet are characterized by contact resistance between turn-to-turn layers, and the contact resistance characteristics are determined by properties of conductor surface and winding tension. In order to accurately predict the electromagnetic characteristics of the NI coil in a design stage, it is necessary to control the contact resistance characteristics within the design target parameters. In this paper, the contact resistance and critical current characteristics of a rare-earth barium copper oxide (REBCO) conductor were measured to analyze the effects of surface treatment conditions (roughness and oxidation level) of the copper stabilizer layer in REBCO conductor. The test samples with different surface roughness and oxidation levels were fabricated and conductor surface analysis was performed using scanning electron microscope, alpha step surface profiler and energy dispersive X-ray spectroscopy. Moreover, the contact resistance and critical current characteristics of the samples were measured using the four-terminal method in a liquid nitrogen impregnated cooling environment. Compared with as-received REBCO conductor sample, the contact resistance values of the REBCO conductors, which were post-treated by the scratch and oxidation of the surface of the copper stabilizer layer, tended to increase, and the critical current values were decreased under certain roughness and oxidation conditions.
The results of the electrical contact conductivity of multi-contact spots accounting the surface roughness and the non-conductive films of different origins such as air, water, cutting oil, and machining oil are presented. The array of metal spheres compressed between two flat plates has been used for simulation of the contact behavior of multiple contact of solids, under normal loading. Measurement of electrical contact resistance has been made using the equipment providing the adequate accuracy in the range of micro Ohms. The data on electrical contact resistance have been compared with theoretical predictions using the multiple contact model of constriction resistance. The effect of single spot number and array on conductivity of contact has been evaluated. The results of the experiments show that the contact resistance are closely related to the number of loading cycles, form of surface roughness, and presence of non-conductive films that reduce the size of the real electrical contact spots.
The flow of electrical current through a microscopic actual contact spot between two conductors is influenced by the flow through adjacent contact spots. A smoothed version of this interaction effect is developed and used to predict the contact resistance when the statistical size and spatial distribution of contact spots is known. To illustrate the use of the method, an idealized fractal rough surface is defined using the random midpoint displacement algorithm and the size distribution of contact spots is assumed to be given by the intersection of this surface with a constant height plane. With these assumptions, it is shown that including finer scale detail in the fractal surface, equivalent to reducing the sampling length in the measurement of the surface, causes the predicted resistance to approach the perfect contact limit.
The Transactions of the Korean Institute of Electrical Engineers C
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v.54
no.12
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pp.558-560
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2005
The carbon film was deposited by the electrolysis of methanol solution. Carbon films have been grown on silicon substrates using the method of chemical process. From investigations of the Raman spectroscopy and the FTIR spectroscopy, the carbon film deposited by the electrolysis was identified the hydrogenated carbon film with the porous structure. The carbon film deposited by elctrolysis of methanol was identified as the hydrogenated carbon film with porous structure. Deposition parameters for the growth of the carbon films were current density, methanol liquid temperature. We electrical resistance and surface morphology of carbon films formed various conditions specified by deposition parameters. It was clarified that the high electrical resistance carbon films with smooth surface morphology are grown when a distance between the electrodes is relatively wider. We found that the electrical resistance in the films independent of both current density and methanol liquid temperature. The temperature dependence of the electrical resistance in the low resistance carbon films is different from one obtained in graphite..
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.19
no.5
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pp.477-479
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2006
Carbon films was grown on Si substrates using the method of electrolysis for methanol liquid. Deposition parameters for the growth of the carbon films were current density for the electrolysis, methanol liquid temperature and electrode spacing between anode and cathode. We examined electrical resistance and the surface morphology of carbon films formed under various conditions specified by deposition parameters. It was clarified that the high electrical resistance carbon films with smooth surface morphology are grown when a distance between the electrodes was relatively wider. We found that the electrical resistance in the films was independent of both current density and methanol liquid temperature for electrolysis. The temperature dependence of the electrical resistance in the low resistance carbon films was different from one obtained in graphite.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2006.06a
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pp.553-554
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2006
Carbon films was grown on Si substrates using the method of electrolysis for methanol liquid. Deposition parameters for the growth of the carbon films were current density for the electrolysis. methanol liquid temperature and electrode spacing between anode and cathode. We examined electrical resistance and the surface morphology of carbon films formed under various conditions specified by deposition parameters. It was clarified that the high electrical resistance carbon films with smooth surface morphology are grown when a distance between the electrodes was relatively wider. We found that the electrical resistance in the films was independent of both current density and methanol liquid temperature for electrolysis. The temperature dependence of the electrical resistance in the low resistance carbon films was different from one obtained in graphite.
Proceedings of the Korean Society of Machine Tool Engineers Conference
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2001.10a
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pp.172-178
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2001
Titanium alloys have lightness, high strength and good corrosion resistant characteristics, and broadly used in manufacturing parts for military and aerospace industries. And these alloys also are recognized for organism materials comparatively and used as fixing ones in the human body. Nevertheless thess alloys have excellent properties such as corrosion resistance, heat resistance, and good tensile strength, it is difficult to machine by traditional methods because of high hardness and chemically activated property. So higher tool wear is expected when cutting by tools. Therefore, it is required nontraditional machining process. And the mechanical characteristics such as surface structure and shape, hardness and bending strength are studied for wire electrical discharge machined and surface ground titanium alloys for various heat-treated conditions.
Kim, Seok-Hwan;Lee, Yong-Hyun;Lim, Soo-Cheol;Park, Kyoung-Su;Park, No-Cheol;Park, Young-Pil
Transactions of the Society of Information Storage Systems
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v.3
no.4
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pp.160-166
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2007
In this paper, the measured electrical resistance method is proposed to analyze the ramp-tab contact during the load/unload (L/UL) process. Since this method supplies the voltage change due to the resistance change, we can easily and conveniently identify the ramp-tab contact from the acoustic emission (AE) signal. At first, we carefully deposit the conductive material on the surface of the conventional ramp by sputtering method. The ratio frequency (RF) magnetron co-sputtering system is applied to accomplish the deposited double-layers on the ramp surface. One layer is the stainless steel for the conductive layer and the other is the titanium layer for the cohesive function between the ramp surface and the stainless steel layer. In order to guarantee the stiffness and damping properties of the original ramp, the deposited conductive layer is intended to have very thin thickness. After integration the proposed ramp device into the L/UL system and networking the electrical resistance circuit, the L/UL performance is experimentally evaluated by comparing the measured electrical resistance signal and AE signal.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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