Diamond Film Deposition by Microwave Plasma CVD Using a Mixture of $CH_4$ , $H_2$ , $O_2$ ,
(마이크로웨이브 플라즈마 화학증착법에 의해 메탄, 수소, 산소의 혼합가스로부터 다이아몬드 박막의 합성)
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- Journal of the Korean Ceramic Society
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- v.27 no.4
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- pp.513-520
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- 1990