I think this will be valuable reference for assuring consistency and homogeneity of clarity and managing dental radiation equipment by experimentation of dental radiation equipment permanent which based on KS C IEC 61223-3-4 standard and KS C IEC 61223-2-7. Put a dental radiation generator and experiment equipment as source and film(sensor) length within 30 em, place the step-wedge above the film(sensor). Tie up tube voltage 60 kVp, tube current 7 mA and then get an each image through CCD sensor and film by changing the exposure time as 0.12sec, 0.25sec, 0.4sec. Repeat the test 5times as a same method. Measure the concentration of each stage of film image, which gained by experiment, using photometer. And the image that gained by CCD sensor, analyze the pixel value's change by using image J, which is analyzing image program provided by NIH(National Institutes of Health). In case of film, while 0.12sec and 0.25sec show regular rising pattern of density gap as exposure time's increase, 0.4sec shows low rather than 0.12sec and 0.25sec. In case of CCD sensor density test, the result shows opposite pattern of film. This makes me think that pixels of CCD's sensor can have 0~255 value but it becomes saturation if the value is over 255. The way that getting clear reception during decreasing human's exposed radiation is one of maintaining an equipment as a best condition. So we should keeping a dental radiation equipment's condition steadily through cyclic permanent test after factor examination. Even digital equipment doesn't maintain a permanent, it can maintain a clarity by post processing of image so that hard to set it as standard of permanent test. Therefore it would be more increase the accuracy that compare a film as standard image. Thus I consider it will be an important measurement to care for dental radiation equipment and warrant homogeneity, consistency of dental image's clarity through comparing pattern which is the result from factor test against cyclic permanent test.
Oxygen reduction in an alkaline fuel cell was studied by using perovskite type oxides as an oxygen electrode catalyst. The high surface area catalysts were prepared by malic acid method and had a formula of $La_{0.6}Sr_{0.4}Co_{1-x}Fe_xO_3$(x=0.00, 0.01, 0.10, 0.20, 0.35 and 0.50). From the result of XRD pattern and specific surface area due to the amount of Fe substitution and the consumption of ammonia-water, the complex formation of Fe ion with $NH_3$ was the main factor for both the phase stability of perovskite and the increase of specific surface area. Multi-step calcination was necessary to give a single phase of perovskite in catalyst precursor. The crystal structure of the catalysts was simple cubic perovskite, which was verified from the XRD patterns of the catalysts. The activity of oxygen reduction was monitored by the techniques of cyclic voltammetry, static voltage-current method, and current interruption method. The activity(current density) of oxygen reduction showed its minimum at x=0.01 and its maximum between 0.20 and 0.35 of x-value in $La_{0.6}Sr_{0.4}Co_{1-x}Fe_xO_3$. This tendency was independent of the change of surface area.
Transactions of the Korean Society of Automotive Engineers
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v.14
no.3
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pp.10-21
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2006
The aim in this study is to develop the combined EGR system with a non-thermal plasma reactor for reducing exhaust emissions and improving fuel economy in turbo intercooler ECU common-rail diesel engines. At the first step, in this paper, the characteristics of performance and $NO_x{\cdot}THC$ emissions under four kinds of engine loads are experimentally investigated by using a four-cycle, four-cylinder, direct injection type, water-cooled turbo intercooler ECU common-rail diesel engine with a combined plasma exhaust gas recirculation(EGR) system operating at three kinds of engine speeds. The EGR system is used to reduce $NO_x$ emissions, and the non-thermal plasma reactor and turbo intercooler system are used to reduce THC emissions. The plasma system is a flat-to-flat type reactor operated by a plasma power supply. The fuel is sprayed by pilot and main injections at the variable injection timing between BTDC $15^{\circ}$ and ATDC $1^{\circ}$ according to experimental conditions. It is found that the specific fuel consumption rate with EGR is increased, but the fuel economy is better than that of mechanical injection type diesel engine as compared with the same output. Results show that $NO_x$ emissions are decreased, but THC emissions are increased, as the EGR rate is elevated. $NO_x$ and THC emissions are also slightly decreased as the applied electrical voltage of the non-thermal plasma reactor is elevated. Thus one can conclude that the influence of EGR in $NO_x$ and THC emissions is larger than that of the non-thermal plasma reactor, but THC emissions are greatly influenced by the non-thermal plasma reactor as the EGR rate is elevated.
Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea SD
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v.45
no.3
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pp.60-68
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2008
This work describes a re-configurable 10MS/s to 100MS/s, low-power 10b two-step pipeline ADC operating at a power supply from 0.5V to 1.2V. MOS transistors with a low-threshold voltage are employed partially in the input sampling switches and differential pair of the SHA and MDAC for a proper signal swing margin at a 0.5V supply. The integrated adjustable current reference optimizes the static and dynamic performance of amplifiers at 10b accuracy with a wide range of supply voltages. A signal-isolated layout improves the capacitor mismatch of the MDAC while a switched-bias power-reduction technique reduces the power dissipation of comparators in the flash ADCs. The prototype ADC in a 0.13um CMOS process demonstrates the measured DNL and INL within 0.35LSB and 0.49LSB. The ADC with an active die area of $0.98mm^2$ shows a maximum SNDR and SFDR of 56.0dB and 69.6dB, respectively, and a power consumption of 19.2mW at a nominal condition of 0.8V and 60MS/s.
Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea SD
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v.45
no.3
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pp.77-85
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2008
This work proposes a 12b 130MS/s 108mW $1.8mm^2$ 0.18um CMOS ADC for high-quality video systems such as TFT-LCD displays and digital TVs requiring simultaneously high resolution, low power, and small size at high speed. The proposed ADC optimizes power consumption and chip area at the target resolution and sampling rate based on a three-step pipeline architecture. The input SHA with gate-bootstrapped sampling switches and a properly controlled trans-conductance ratio of two amplifier stages achieves a high gain and phase margin for 12b input accuracy at the Nyquist frequency. A signal-insensitive 3D-fully symmetric layout reduces a capacitor and device mismatch of two MDACs. The proposed supply- and temperature- insensitive current and voltage references are implemented on chip with a small number of transistors. The prototype ADC in a 0.18um 1P6M CMOS technology demonstrates a measured DNL and INL within 0.69LSB and 2.12LSB, respectively. The ADC shows a maximum SNDR of 53dB and 51dB and a maximum SFDR of 68dB and 66dB at 120MS/s and 130MS/s, respectively. The ADC with an active die area of $1.8mm^2$ consumes 108mW at 130MS/s and 1.8V.
Recently, various research studies have been conducted and many are in progress for the suitable alternative materials for ITO based touch screen panel (TSP) due to limitations in size and flexibility. Various researches from all over the world have been attempted to fabricate the fine electrode less than $5{\mu}m$ for the rapid developing of display technology. Research is also being carried out in metal mesh methods using the existing technologies and alternative materials at commercial level. However, by using the existing technologies certain discrepancies are observed like low transparency and low yield which also results in the distortion of patterns. For repairing the damaged pattern, the conventional laser CVD technique has also been used but there are some challenges observed in CVD technique like achieving a stable fine electrode of $10{\mu}m$ or less and avoiding the formation of satellite drops. To overcome these issues, a new printing process named Electrohydrodynamic (EHD) printing, has been introduced by which $5{\mu}m$ fine patterns can be printed in one step. This EHDA printing technique has been applied to print very fine electrodes of $5{\mu}m$ or less by using conductive inks of various viscosities. This study also presents the optimized process parameters for printing $5{\mu}m$ fine electrode patterns during experiments by controlling the applied voltage and supply flow rate. The $5{\mu}m$ repair electrodes were fabricated for repairing $50{\mu}m$ shorted electrode samples.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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1999.07a
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pp.106-106
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1999
반도체 소자가 소브마이크론 이하로 집적화 되어감에 따라, RC 신호 지연 및 간섭 현상, 전력 소비의 증가 문제가 심각하게 대두되고 있다. 이러한 문제를 개선하기 위해서는, 현재 층간 절연막으로 상용화되어 있는 SiO2 박막을 대체할 저유전율 박막의 개발이 필수적이며, 많은 연구자들이 여러 가지 새로운 유기물질과 무기물질은 제안하고 있다. 반도체 공정상의 적합성을 고려할 때, 이들 여러물질 중에서 알킬기를 함유한 SiO2 박막(이하 'Si-O-C-H 박막'으로 표기)에 많은 관심이 집중되고 있다. Si-O-C-H 박막은 알킬기에 의해 형성된 나노 스케일의 기공에 의해 작은 유전율을 가지게 된다. 따라서, 박막내의 알킬기의 함유량이 많을수록 보다 작은 유전율을 얻을 수 있다. 그러나 과다한 알킬기의 함유는 Si-O-C-H 박막의 열적 특성을 열화시키는 부정적인 효과도 있다. 본 연구에서는 bis-trimethylsilylmethane(BTMSM, H9C3-Si-CH2-Si-C3H9) precursor를 이용하여 Si-O-C-H 박막을 증착하였다. BTMSM precursor의 중요한 특징중 하나는, 두 실리콘 원자 사이에 Si-CH2 결합이 존재한다는 사실이다. Si-CH2 결합은 양쪽의 Si에 의해 강하게 결합되어 있어서, BTMSM precursor를 사용하여 Si-O-C-H 박막은 유전상수도 작을 뿐 아니라, 열적으로도 안정된 특성이 얻어질 것으로 기대된다. Si-O-C-H 박막의 열적 안정성을 평가하기 위하여, 고온 열처리 전후의 FT-IR 스펙트럼 분석과 C-V(capacitance-voltage) 측정에 의한 유전상수 변화를 살펴보았다. 또한 증착된 박막의 미세구조 및 step coverage 특성 관찰을 위하여 SEM(scanning electron microscopy) 및 TEM(transmission electron micfroscopy) 분석을 하였다. 변화하였으며 이는 포토루미네슨스의 변화의 원인으로 판단된다. 연구하였다. CeO2 와 Si 사이의 계면을 TEM 측정에 의해 분석하였고, Ce와 O의 화학적 조성비를 RBS에 의해 측정하였다. Si(100) 기판위에 증착된 CeO2 는 $600^{\circ}C$ 낮은 증착률에서 seed layer를 하지 않은 조건에서 CeO2 (200) 방향으로 우선 성장하였으며, Si(111) 기판 위의 CeO2 박막은 40$0^{\circ}C$ 높은 증착률에서 seed layer를 2분이상 한 조건에서 CeO2 (111) 방향으로 우선 성장하였다. TEM 분석에서 CeO2 와 Si 기판사이에서 계면에서 얇은 SiO2층이 형성되었으며, TED 분석은 Si(100) 과 Si(111) 위에 증착한 CeO2 박막이 각각 우선 방향성을 가진 다결정임을 보여주었다. C-V 곡선에서 나타난 Hysteresis는 CeO2 박막과 Si 사이의 결함때문이라고 사료된다.phology 관찰결과 Ge 함량이 높은 박막의 입계가 다결정 Si의 입계에 비해 훨씬 큰 것으로 나타났으며 근 값도 증가하는 것으로 나타났다. 포유동물 세포에 유전자 발현벡터로써 사용할 수 있음으로 post-genomics시대에 다양한 종류의 단백질 기능연구에 맡은 도움이 되리라 기대한다.다양한 기능을 가진 신소재 제조에 있다. 또한 경제적인 측면에서도 고부가 가치의 제품 개발에 따른 새로운 수요 창출과 수익률 향상, 기존의 기능성 안료를 나노(nano)화하여 나노 입자를 제조, 기존의 기능성 안료에 대한 비용 절감 효과등을 유도 할 수 있다. 역시 기술적인 측면에서도 특수소재 개발에 있어 최적의 나노 입자 제어기술 개발 및 나노입자를 기능성 소재로 사용하여 새로운 제품의 제조와 고압 기상 분사기술의 최적화에 의한 기능성 나노 입자 제조 기술을 확립하고 2차 오염 발생원인 유기계 항균제를 무기계 항균제로 대
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2000.02a
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pp.77-77
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2000
Titanium oxide (TiO2) thin films have valuable properties such as a high refractive index, excellent transmittance in the visible and near-IR frequency, and high chemical stability. Therefore it is extensively used in anti-reflection coating, sensor, and photocatalysis as electrical and optical applications. Specially, TiO2 have a high dielectric constant of 180 along the c axis and 90 along the a axis, so it is highlighted in fabricating dielectric capacitors in micro electronic devices. A variety of methods have been used to produce patterned self-assembled monolayers (SAMs), including microcontact printing ($\mu$CP), UV-photolithotgraphy, e-beam lithography, scanned-probe based micro-machining, and atom-lithography. Above all, thin film fabrication on $\mu$CP modified surface is a potentially low-cost, high-throughput method, because it does not require expensive photolithographic equipment, and it produce micrometer scale patterns in thin film materials. The patterned SAMs were used as thin resists, to transfer patterns onto thin films either by chemical etching or by selective deposition. In this study, we deposited TiO2 thin films on Si (1000 substrateds using titanium (IV) isopropoxide ([Ti(O(C3H7)4)] ; TIP as a single molecular precursor at deposition temperature in the range of 300-$700^{\circ}C$ without any carrier and bubbler gas. Crack-free, highly oriented TiO2 polycrystalline thin films with anatase phase and stoichimetric ratio of Ti and O were successfully deposited on Si(100) at temperature as low as 50$0^{\circ}C$. XRD and TED data showed that below 50$0^{\circ}C$, the TiO2 thin films were dominantly grown on Si(100) surfaces in the [211] direction, whereas with increasing the deposition temperature to $700^{\circ}C$, the main films growth direction was changed to be [200]. Two distinct growth behaviors were observed from the Arhenius plots. In addition to deposition of THe TiO2 thin films on Si(100) substrates, patterning of TiO2 thin films was also performed at grown temperature in the range of 300-50$0^{\circ}C$ by MOCVD onto the Si(100) substrates of which surface was modified by organic thin film template. The organic thin film of SAm is obtained by the $\mu$CP method. Alpha-step profile and optical microscope images showed that the boundaries between SAMs areas and selectively deposited TiO2 thin film areas are very definite and sharp. Capacitance - Voltage measurements made on TiO2 films gave a dielectric constant of 29, suggesting a possibility of electronic material applications.
The Journal of the Institute of Internet, Broadcasting and Communication
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v.19
no.3
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pp.179-184
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2019
In many countries, such as developing countries where electricity is scarce, small wind turbines in the form of Off Grid are an effective solution to solve power supply problems. In some countries, the expansion of power systems and the decline of electricity-intensive areas have led to the use of small wind power in urban road lighting, mobile communications base stations, aquaculture and seawater desalination. With this change, the size of the small wind power industry is expected to have greater potential than large-scale wind power. In the case of small wind power generators, the generator is controlled at a variable speed, and the voltage and current generated by the generator have many harmonic components. To solve this problem, the AC to DC converter to be studied in this paper is a three-phase step-up type converter with a single switch. The inductor current is controlled in discontinuous mode, and has a characteristic of having a unit power factor by eliminating the harmonic of the input current. The proposed converter is composed of LCL filter and three phase rectification boost converter at the input stage and a single phase full bridge for grid connection. It is a control system with energy storage system(ESS) that the system stabilization can be pursued against the electric power.
Asia-pacific Journal of Multimedia Services Convergent with Art, Humanities, and Sociology
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v.8
no.11
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pp.215-222
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2018
In this paper, the research on the energy storage system adapting super-capacitor has been performed. The most advanced features compared to the conventional lead-acid battery systems is that it can obtain high power capability due to the super capacitor power characteristics. The suggested system can attain high power in short times and achieve high power quality improvements. The application areas are power quality improvement system, motor start power which requires high power during transient times. The energy conversion system consists of bi-directional converter and inverter and advantages of high speed, high power charging and discharging performances. The design steps for the two loop controller of the bi-directional inverter are suggested and verified by the experiment and manufacturing. The two loop controller design starts from linearized transfer function which is calculated from the state averaging model including state decoupling method. The current controller requirements are 20% overshoot and settling time and voltage controller are no overshoot and settling time which is 10 times longer than current controller. The design is verified from the step input response. The designed controllers have unity power factor characteristics and thus can improve the power quality of the grid. It also has fast response time and zero steady state error.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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